[發明專利]馬赫-曾德爾干涉型微流控光學陀螺芯片的制作方法無效
| 申請號: | 200910185328.4 | 申請日: | 2009-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN101704499A | 公開(公告)日: | 2010-05-12 |
| 發明(設計)人: | 涂興華;沈鵬;梁忠誠;徐寧;黃舒舒 | 申請(專利權)人: | 南京郵電大學 |
| 主分類號: | B81C1/00 | 分類號: | B81C1/00;B81C3/00;G01C19/64 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 葉連生 |
| 地址: | 210003 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 馬赫 曾德爾 干涉 型微流控 光學 陀螺 芯片 制作方法 | ||
1.一種馬赫-曾德爾干涉型微流控光學陀螺芯片的制作方法,其特征在于采用機械加工、制作PDMS微流控芯片、鍍膜、封合來實現包含上蓋板(11)、由PDMS薄膜構成的微型氣泵層(12)、光波導層(13)和下底板(14)的夾心結構的集成制作,其主要步驟包括:
1)光波導層的制作:采用制作光掩膜的方法,通過CAD設計微流道,將其打印在透明膠片上作為掩膜,在硅片上甩涂一薄層光刻膠,通過紫外線曝光,未曝光區域用顯影液溶解,硅片以及表面上剩下的凸起SU-8結構用作制作PDMS基片的陽模,硅陽模表面用氟化的硅烷化試劑處理,然后將固化的PDMS從陽模剝離,制成具有特定微流道的基片;
2)在PDMS薄膜上用鉆孔器產生排氣孔,注液孔和電極孔;
3)鍍膜:采用蒸鍍技術來進行鍍膜,在真空下加熱靶材金屬,使其蒸發壓力超過環境壓力,從而加速蒸發,被涂敷的基片放在真空室中源材料的附近,當蒸氣接觸到較冷的基片表面時,金屬蒸氣被壓縮,且在基片上顆粒邊界生長出膜層。再采用聚乙烯醇(PVA)管壁涂層修飾微流道內壁;
4)芯片封合:光陀螺四層之間的封合,即四層PDMS膜層的封合,這兩種封合都用等離子輔助鍵合,制作后與上蓋板先封合,脫離基片,再與光波導層封合。紫外線通過光掩膜使光刻膠曝光,未曝光區域用顯影液溶解。硅片以及表面上剩下的凸起SU-8結構用作制作PDMS基片的陽模。這樣可以獲得較高的深寬比,其結構側壁與基體表面垂直。這種封合可用等離子輔助鍵合,氧等離子體有助于表面清洗,同時可提高表面化學活性,特別是聚合物材料的表面活性。氧等離子體處理的PDMS可實現永久封合。
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