[發(fā)明專利]使用加熱鍵合頭的直接晶粒裝配有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910180727.1 | 申請日: | 2009-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN101728288A | 公開(公告)日: | 2010-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李明;丁穎;屠平亮;羅敬銘;鐘國基 | 申請(專利權(quán))人: | 先進(jìn)自動器材有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/603 | 分類號: | H01L21/603;H01L33/00;B23K1/00;B23K1/20;B23K35/24 |
| 代理公司: | 北京申翔知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11214 | 代理人: | 周春發(fā) |
| 地址: | 中國香港新界葵涌工*** | 國省代碼: | 中國香港;81 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 使用 熱鍵 直接 晶粒 裝配 | ||
1.一種鍵合包含有焊料層的晶粒的方法,焊料層具有熔點Tm,該方法包含有以下步驟:
將鍵合頭加熱到鍵合頭設(shè)定溫度T1,T1高于Tm;
將襯底加熱到襯底設(shè)定溫度T2,T2低于Tm;
使用加熱的鍵合頭拾取晶粒朝向溫度T1加熱晶粒,以便于熔化焊料層;
將晶粒的融化的焊料層按壓在加熱的襯底上,以便于鍵合晶粒到襯底上;其后
將鍵合頭與鍵合的晶粒分開,以便于焊料層朝向溫度T2冷卻并固化。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中鍵合頭設(shè)定溫度T1高于Tm5-50℃。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其中襯底設(shè)定溫度T2低于Tm5-50℃。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其中在將晶粒按壓在襯底上的步驟中,晶粒的溫度下降到溫度T3,T3位于T1和Tm之間。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其中焊料層的熔點Tm為280℃。
6.如權(quán)利要求1所述的方法,該方法還包含有以下步驟:
在使用鍵合頭從臺體處拾取晶粒的步驟以前,首先將晶粒裝配在黏結(jié)片上,晶粒的焊料層朝下,然后使用拾取臂拾取晶粒并將其放置在臺體上。
7.如權(quán)利要求6所述的方法,其中使用拾取臂將晶粒放置在臺體上,晶粒的焊料層朝下。
8.如權(quán)利要求1所述的方法,該方法還包含有以下步驟:
在使用鍵合頭從拾取臂處拾取晶粒的步驟以前,首先將晶粒裝配在黏結(jié)片上,晶粒的焊料層朝上,然后使用拾取臂拾取晶粒并將晶粒倒置以便于晶粒的焊料層朝下。
9.如權(quán)利要求1所述的方法,其中襯底被封閉在腔室內(nèi),該腔室包括加熱通道。
10.如權(quán)利要求9所述的方法,其中該加熱通道被蓋體所封閉,該腔室填充有保護(hù)氣體,以防止焊料層和襯底氧化。
11.如權(quán)利要求1所述的方法,該方法還包含有以下步驟:
當(dāng)晶粒被加熱的鍵合頭夾持時,將保護(hù)氣體吹在晶粒上,以防止焊料層氧化。
12.如權(quán)利要求1所述的方法,其中在預(yù)定的鍵合力下將晶粒按壓在襯底上持續(xù)一段預(yù)定的時間。
13.如權(quán)利要求1所述的方法,其中焊料層包括金-錫材料。
14.如權(quán)利要求1所述的方法,其中晶粒包括高亮度LED芯片。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于先進(jìn)自動器材有限公司,未經(jīng)先進(jìn)自動器材有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910180727.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:靜電吸盤裝置及其制造方法
- 下一篇:半導(dǎo)體器件的制造方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





