[發明專利]等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑

無效

• 申請號: 200910179222.3
• 申請日: 2009-10-10
• 公開（公告）號: CN101989521A
• 公開（公告）日: 2011-03-23
• 發明（設計）人: 樸贊碩;金東完;李成勛;李英煥;樸廷薰
• 申請（專利權）人: 株式會社東進世美肯
• 主分類號: H01J17/04
• 分類號: H01J17/04;H01J9/02;H01J17/49
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;張志楠

1.一種等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，所述光敏性糊劑含有a)電極用金屬粉末40重量份～80重量份；b)V₂O₅-P₂O₅系黑色玻璃料或者V₂O₅-P₂O₅系和Bi₂O₃-ZnO-B₂O₃系混合的黑色玻璃料1重量份～10重量份；c)Cu-Co-Mn系黑色顏料1重量份～7重量份；和d)光敏性有機成分7重量份～40重量份。

2.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述V₂O₅-P₂O₅系黑色玻璃料為含有35mol％～50mol％V₂O₅、25mol％～35mol％P₂O₅、5mol％～15mol％ZnO以及5mol％～15mol％BaO的V₂O₅-P₂O₅-ZnO-BaO系黑色玻璃料。

3.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述黑色玻璃料的玻璃化轉變溫度Tg為340℃～370℃。

4.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述金屬粉末的粒徑為0.1μm～3μm。

5.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述金屬粉末的振實密度為4g/cm³～5g/cm³。

6.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述金屬粉末的比表面積為0.5m²/g～1.5m²/g。

7.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述黑色顏料的平均粒度為0.05μm～0.1μm。

8.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所含有的所述黑色玻璃料與黑色顏料的重量比為1.5∶1～1∶2。

9.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述光敏性有機成分含有i)有機粘結劑5重量份～30重量份、ii)光聚合性單體1重量份～10重量份和iii)光引發劑1重量份～10重量份。

10.如權利要求9所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述有機粘結劑為將不飽和羧酸20重量％～70重量％、芳香族單體10重量％～40重量％和丙烯酸類單體20重量％～60重量％聚合而制造的。

11.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述光敏性糊劑進一步含有選自由燒結助劑、著色劑、染料、分散劑、抗擦傷劑、增塑劑、粘合促進劑、增速劑、表面活性劑以及它們的混合物組成的組中的一種以上的添加劑。

12.如權利要求1所述的等離子體顯示屏電極形成用光敏性糊劑，其特征在于，所述電極為黑色層和導電層一體化的匯流電極。

13.一種等離子體顯示屏的制造方法，該等離子體顯示屏的制造方法包括如下工序：將權利要求1的電極形成用光敏性糊劑涂布在透明基板上的工序；對涂布了所述電極形成用光敏性糊劑的透明基板進行曝光、顯影而形成電極圖案的工序；和對形成了所述電極圖案的透明基板進行燒成而形成電極的工序。

14.如權利要求13所述的等離子體顯示屏的制造方法，其特征在于，該等離子體顯示屏的制造方法還包括在所述電極形成用光敏性糊劑的涂布之前在透明基板上形成透明電極的步驟。

15.如權利要求13所述的等離子體顯示屏的制造方法，其特征在于，所述電極為黑色層和導電層一體化的匯流電極。

16.一種等離子體顯示屏，所述等離子體顯示屏為利用權利要求13至15的任一項所述的制造方法來制造的。