[發明專利]液晶裝置、電子設備以及液晶裝置的制造方法

有效

• 申請號: 200910179117.X
• 申請日: 2009-09-28
• 公開（公告）號: CN101713883A
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發明（設計）人: 吉田周平;田中慎一郎;西村城治;吉田公二;瀧澤圭二;比嘉政勝
• 申請（專利權）人: 愛普生映像元器件有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1343;G02F1/1335;G02F1/1362;G02F1/1368
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 陳海紅;周春燕

1.一種液晶裝置，其是橫向電場方式的液晶裝置，該橫向電 場方式的液晶裝置在第1基板與第2基板之間夾持液晶層，在前述第 1基板的前述液晶層側的面上形成像素電極與共用電極，并且利用在 前述像素電極與前述共用電極之間產生的電場對前述液晶層進行驅 動，其特征在于：

在前述第2基板的前述液晶層側，按下述順序形成：俯視在包 括前述像素電極間的區域形成的至少吸收可見光的遮光層、以俯視與 前述像素電極重疊的方式形成的使特定的波長范圍的光透射的著色 層、保護前述著色層的涂層、取向膜；

在前述涂層的前述第2基板側且前述遮光層的前述液晶層側 形成有包括透明導電材料的靜電屏蔽層。

2.按照權利要求1所述的液晶裝置，其特征在于：

前述著色層形成于前述靜電屏蔽層的前述液晶層側。

3.按照權利要求1所述的液晶裝置，其特征在于：

前述著色層形成于前述靜電屏蔽層的前述第2基板側。

4.按照權利要求2所述的液晶裝置，其特征在于：

前述第2基板的外緣部的至少一部分是未形成有前述靜電屏 蔽層的區域。

5.按照權利要求4所述的液晶裝置，其特征在于：

在前述遮光層與前述著色層的邊界部分形成有高低差；在前述 靜電屏蔽層的表面，形成有反映了前述遮光層的形狀的凹凸形狀。

6.按照權利要求3所述的液晶裝置，其特征在于：

前述第2基板的外緣部的至少一部分是未形成有前述靜電屏 蔽層的區域。

7.按照權利要求6所述的液晶裝置，其特征在于：

在前述遮光層與前述著色層的邊界部分形成有高低差；在前述 靜電屏蔽層的表面，形成有反映了前述遮光層的高低差的凹凸形狀。

8.按照權利要求1～7中的任意一項所述的液晶裝置，其特征 在于：

在前述第1基板的前述液晶層側的面上，設置有驅動電路、與 前述驅動電路電連接的引繞布線；

前述引繞布線與前述靜電屏蔽層，經由在前述第1基板與前述 第2基板之間夾持的導通材料，互相在俯視重疊的位置電連接；

前述靜電屏蔽層的電位由前述驅動電路控制為預定電位。

9.按照權利要求8所述的液晶裝置，其特征在于：

前述靜電屏蔽層的電位，被控制為與前述共用電極的電位相同 的電位。

10.按照權利要求8所述的液晶裝置，其特征在于：

前述第1基板，具有覆蓋前述引繞布線的絕緣膜；

在前述絕緣膜上，設置有前述引繞布線的一部分露出于底部的 接觸孔；

在前述接觸孔的內部，形成有覆蓋露出于底部的前述引繞布線 的導電膜；

前述靜電屏蔽層，經由前述導通材料和前述導電膜與前述引繞 布線導通。

11.按照權利要求10所述的液晶裝置，其特征在于：

前述導電膜，以導電性金屬氧化物為形成材料。

12.按照權利要求10所述的液晶裝置，其特征在于：

在前述第1基板的前述液晶層側，前述像素電極與前述共用電 極隔著前述絕緣膜進行疊層；

與前述像素電極相比，前述共用電極設置于靠前述液晶層側。

13.按照權利要求1～7中的任意一項所述的液晶裝置，其特 征在于：

在前述液晶層的周圍，設置有密封液晶分子的密封材料；

在由前述密封材料包圍的區域的內側，設置由多個前述像素電 極形成的顯示區域，并且在由前述密封材料包圍的區域的內側、前述 顯示區域與前述密封材料之間設置非顯示區域；

在前述第1基板的前述非顯示區域，配置有使向前述顯示區域 侵入的靜電放電的靜電保護部件；

前述靜電屏蔽層設置為，與前述靜電保護部件俯視重疊。

14.一種電子設備，其特征在于：

具備權利要求1～13中的任意一項所述的液晶裝置。

15.一種液晶裝置的制造方法，其是橫向電場方式的液晶裝置 的制造方法，該橫向電場方式的液晶裝置具備相對配置的第1基板及 第2基板、夾持于前述第1基板與前述第2基板之間的液晶層、形成 于前述第1基板的前述液晶層側的面上的像素電極及共用電極、在前 述第2基板的前述液晶層側的面上俯視在包括前述像素電極間的區 域形成的至少吸收可見光的遮光層、在前述遮光層的前述液晶層側包 括透明導電材料的靜電屏蔽層，并且利用在前述像素電極與前述共用 電極之間產生的電場對前述液晶層進行驅動，其特征在于，該液晶裝 置的制造方法包括：

第1工序，其在前述第2基板的一方的面上形成遮光材料層；

笫2工序，其對前述遮光材料層進行圖案形成，從而形成俯視 與包括前述像素電極的區域對應的開口部和對準標記；

第3工序，其與前述一方的面相對配置成膜掩模，并利用前述 對準標記使前述第2基板與前述成膜掩模位置對準；以及

第4工序，其經由前述成膜掩模在前述一方的面上使透明導電 材料層成膜，以覆蓋遮光材料層且各靜電屏蔽層相互具有間隔的方式 形成前述靜電屏蔽層。