[發明專利]接近式曝光裝置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法

無效

• 申請號: 200910178873.0
• 申請日: 2009-10-09
• 公開（公告）號: CN101738870A
• 公開（公告）日: 2010-06-16
• 發明（設計）人: 森順一;松山勝章;樋川博志
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高科技
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/68
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一種接近式曝光裝置，包括：搭載基板的夾盤、保持掩模的掩模 架、以及移動所述夾盤的平臺，在掩模和基板之間設有微小的間隙，以將 掩模的圖案轉印到基板，該接近式曝光裝置的特征在于包括：

對所述平臺的移動加以控制的第一控制機構；

將掩模搬入到所述夾盤的掩模搬送裝置；

多個上頂銷單元，具有從所述夾盤內部上升的上頂銷及使該上頂銷上 下移動的馬達，并分別獨立地安裝在所述夾盤上；

第一圖像獲取裝置，獲取設置在掩模上的位置檢測用標記的圖像，并輸 出圖像信號；

使所述第一圖像獲取裝置移動的移動機構；以及

圖像處理裝置，對所述第一圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處 理，檢測掩模的XY方向的位置，且

所述多個上頂銷單元通過所述上頂銷而從所述掩模搬送裝置接收掩 模；

所述第一控制機構根據所述圖像處理裝置對所述第一圖像獲取裝置的 圖像信號進行處理而檢測出的掩模的XY方向的位置，利用所述平臺來移 動所述夾盤，以進行掩模的定位；

所述多個上頂銷單元通過所述上頂銷而將掩模安裝到所述掩模架上。

2.根據權利要求1所述的接近式曝光裝置，其特征在于：

包括第二圖像獲取裝置，被固定在所述掩模架的上方，獲取掩模的位 置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號，

所述圖像處理裝置對所述第二圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處 理，以檢測掩模的位置，

所述第一控制機構根據所述圖像處理裝置對所述第二圖像獲取裝置的 圖像信號進行處理而檢測出的掩模的位置，利用所述平臺來移動所述夾 盤，對已定位的掩模的位置進行修正。

3.根據權利要求2所述的接近式曝光裝置，其特征在于：

包括第三圖像獲取裝置，在通過所述上頂銷而從所述掩模搬送裝置接 收掩模的掩模接收位置的上空，該第三圖像獲取裝置具有比所述第一圖像 獲取裝置的分辨率低而更廣的視野，獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并 輸出圖像信號，

所述圖像處理裝置對所述第三圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處 理，以檢測掩模的位置，

所述第一控制機構根據所述圖像處理裝置對所述第三圖像獲取裝置的 圖像信號進行處理而檢測出的掩模的位置，利用所述平臺來移動所述夾 盤，將掩模從掩模接收位置移動到所述掩模架下方的掩模安裝位置。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的接近式曝光裝置，其特征在于：

包括多個間隔片，設置在所述夾盤的表面，當載置著掩模的所述上頂 銷下降時接觸到掩模的圖案面的周邊部。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的接近式曝光裝置，其特征在于 包括：

多個防偏位銷單元，具有與保持在所述掩模架上的掩模的側面接觸以 防止掩模偏位的防偏位銷、使該防偏位銷移動而接觸到掩模側面的馬達、以 及檢測該防偏位銷接觸到掩模側面的傳感器，且所述多個防偏位銷單元安 裝在所述掩模架上；以及

對各防偏位銷單元的馬達加以控制的第二控制機構，且

所述第二控制機構對各防偏位銷單元的馬達加以控制，使所述防偏位 銷朝向掩模的側面移動，并根據所述傳感器的檢測結果而使所述防偏位銷 的移動停止。