[發明專利]燒成用載置器

無效

• 申請號: 200910177608.0
• 申請日: 2009-09-24
• 公開（公告）號: CN101713616A
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發明（設計）人: 古宮山常夫;中西泰久;西尾彰
• 申請（專利權）人: 日本礙子株式會社;NGK阿德列克株式會社
• 主分類號: F27D5/00
• 分類號: F27D5/00;C04B35/64;C04B35/48
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 鐘晶

技術領域

本發明涉及燒成用載置器。

背景技術

作為電子部件燒成用載置器，除了要求耐熱性或機械強度以外，還要求不與燒成的陶瓷電子部件發生反應。從和陶瓷電子部件反應性低這樣的觀點出發，氧化鋯質載置器特別適用，以往，使用添加有CaO、MgO、Y₂O₃、CeO₂等穩定劑的氧化鋯質載置器(專利文獻1)。

近年來，受到減少各企業二氧化碳排出量方針的影響，陶瓷電容器等的陶瓷電子部件制造中，也在進行在低溫下具有可燒成組成的部件的開發。這些在低溫下具有可燒成組成的部件的特點為含有BaO、MnO、CaO、SrO、NiO等低熔點金屬氧化物。

這些低熔點金屬氧化物可以進行部件的低溫燒成，但是燒成部件時由載置器表層發生的化學反應引起載置器的變質，成為新問題的主要原因。

具體的，擴散到氧化鋯質載置器的表層的低熔點金屬氧化物在燒成溫度下誘發化學反應，生成鋯酸鹽。由于該鋯酸鹽生成反應伴隨晶體結構的變化，因此在該部分產生應力，由產生應力而引起載置器的彎曲或斷裂、破損這樣的現象，產生載置器壽命變短的問題。

專利文獻1：日本特開8-178549號公報

發明內容

本發明的目的在于提供一種燒成用載置器，可以解決上述問題，在含有低熔點金屬氧化物的部件的燒成中，不產生載置器的彎曲或斷裂、破損這樣的問題。

為了解決上述問題而制成的本發明涉及的燒成用載置器，其特征在于，在由從CaO、MgO、Y₂O₃、CeO₂中選出的一種以上的穩定劑進行穩定化的穩定化氧化鋯的燒成體構成的基材的表面，設置含有30～100質量％的鋯酸鹽的表層。

技術方案2記載的發明的特征在于，在技術方案1記載的燒成用載置器中，表層的成分為鋯酸鹽和穩定化氧化鋯。

技術方案3記載的發明的特征在于，在技術方案1或2記載的燒成用載置器中，表層的厚度為10～500μm。

技術方案4記載的發明的特征在于，在技術方案1～3中任一項記載的燒成用載置器中，鋯酸鹽為含有BaZrO₃、SrZrO₃、CaZrO₃、MgZrO₃中至少一種的鋯酸鹽。

技術方案5記載的發明的特征在于，在技術方案1～4中任一項記載的燒成用載置器中，基材的氣孔率為10～50％。

本發明涉及的燒成用載置器，通過預先在基材的表面設置含有鋯酸鹽的表層，可以有效地防止以往使用氧化鋯質載置器在燒成含有低熔點金屬氧化物的部件時產生的問題(氧化鋯和低熔點金屬氧化物發生化學反應而進行鋯酸鹽化，在該部分產生晶體結構的變化，由該變化，產生載置器的彎曲或斷裂、破損的問題)。因此，可以實現載置器的長壽命化。

附圖說明

圖1為本發明的燒成用載置器的截面說明圖。

符號說明

1?表層

2?基材

具體實施方式

本發明的燒成用載置器在基材的表面設置含有鋯酸鹽的表層。圖1顯示了本發明的一個實施方式。以下，如圖1所示說明有關本發明的實施方式：基材2由穩定化氧化鋯構成，而含有鋯酸鹽的表層1形成在基材2表面上。