[發明專利]清潔裝置及利用該清潔裝置的圖像形成設備

有效

• 申請號: 200910176002.5
• 申請日: 2009-09-18
• 公開（公告）號: CN101846950A
• 公開（公告）日: 2010-09-29
• 發明（設計）人: 福田雄一;小島紀章;坂乃邊真;永井浩美;赤松宏明;片平昌宏
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: G03G21/00
• 分類號: G03G21/00;G03G21/10
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 顧紅霞;龍濤峰

1.一種清潔裝置，包括：

清潔刮板，與要進行清潔的構件的表面接觸以去除殘留在所述構件的表面上的殘留物，所述清潔刮板包括多個層，其中，當溫度升高時，由于所述多個層之間的熱膨脹特性存在差異，所述清潔刮板的前端部分沿與所述構件的表面分離的方向偏移。

2.一種清潔裝置，包括：

清潔刮板構件，與要進行清潔的構件的表面接觸以去除殘留在所述要進行清潔的構件的表面上的殘留物，所述清潔刮板構件包括多個層，其中，當溫度升高時，由于所述多個層之間的熱膨脹特性存在差異，所述清潔刮板構件的前端部分沿與所述要進行清潔的構件的表面分離的方向偏移；以及

固定構件，通過粘合劑安裝并固定所述清潔刮板構件的基端部分。

3.根據權利要求2所述的清潔裝置，其中

所述清潔刮板構件構造成：在所述多個層之中，越是靠近位于所述要進行清潔的構件側的清潔層側的層的熱膨脹系數越大，越是靠近位于所述要進行清潔的構件相反側的背面層側的層的熱膨脹系數越小。

4.根據權利要求2所述的清潔裝置，其中

所述清潔刮板構件具有兩層結構，所述兩層結構包括位于所述要進行清潔的構件側的清潔層和位于所述要進行清潔的構件相反側的背面層，

所述清潔層的熱膨脹系數設定為大于所述背面層的熱膨脹系數，以及

所述粘合劑的熱膨脹系數設定為小于所述背面層的熱膨脹系數。

5.根據權利要求2所述的清潔裝置，其中

所述清潔刮板構件具有兩層結構，所述兩層結構包括位于所述要進行清潔的構件側的清潔層和位于所述要進行清潔的構件相反側的背面層，以及

所述清潔層的材料和所述背面層的材料的永久伸長特性不同。

6.根據權利要求4所述的清潔裝置，其中

所述清潔刮板構件構造成：所述兩層中永久伸長特性較小的一層的厚度設定為大于永久伸長特性較大的另一層的厚度。

7.一種圖像形成設備，包括：

圖像載體，可被驅動而進行旋轉以在它的表面上形成調色劑圖像；以及

清潔刮板構件，與所述圖像載體的表面接觸以去除殘留在所述圖像載體的表面上的殘留物，所述清潔刮板構件包括多個層，其中，當溫度升高時，由于所述多個層之間的熱膨脹特性存在差異，所述清潔刮板構件的前端部分沿與所述圖像載體的表面分離的方向偏移。