[發明專利]封裝電子裝置的方法有效
| 申請號: | 200910175912.1 | 申請日: | 2009-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN101677072A | 公開(公告)日: | 2010-03-24 |
| 發明(設計)人: | 簡·埃林杰;索斯滕·克拉溫克爾;克勞斯·基特-特爾根比舍;安賈·斯泰格 | 申請(專利權)人: | 蒂薩公司 |
| 主分類號: | H01L21/56 | 分類號: | H01L21/56;C09J153/00;C09J153/02;C09J7/00;H01L23/29 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 吳培善 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 封裝 電子 裝置 方法 | ||
1.壓敏粘合劑組合物用于封裝電子裝置阻擋滲透物的用途,其特征在 于,
所述壓敏粘合劑組合物含有由乙烯基芳族化合物形成的聚合物嵌段, 以及所述壓敏粘合劑組合物含有由1,3-二烯的聚合形成的聚合物嵌段,和/ 或特別是或完全氫化的聚合物嵌段;
增粘劑樹脂,和
增塑劑。
2.權利要求1的用途,其特征在于,乙烯基芳族化合物為苯乙烯。
3.權利要求1的用途,其特征在于,1,3-二烯為丁二烯和/或異戊二烯。
4.權利要求1的用途,其特征在于,所述嵌段共聚物的聚乙烯基芳族 化合物的含量為10wt%至35wt%。
5.權利要求1至4任一項的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合 物的乙烯基芳族嵌段共聚物含量為至少20wt%,和/或所述壓敏粘合劑組合 物的乙烯基芳族嵌段共聚物含量為至多80wt%。
6.權利要求5的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物的乙烯基 芳族嵌段共聚物含量為至少30wt%。
7.權利要求5的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物的乙烯基 芳族嵌段共聚物含量為至少35wt%。
8.權利要求5的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物的乙烯基 芳族嵌段共聚物含量為至多65wt%。
9.權利要求5的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物的乙烯基 芳族嵌段共聚物含量為至多60wt%。
10.權利要求1至4任一項的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合 物含有樹脂或樹脂混合物。
11.權利要求1至4任一項的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合 物含有氫化樹脂,所述氫化樹脂的氫化度為至少90%。
12.權利要求11的用途,其特征在于,所述氫化樹脂的氫化度為至少 95%。
13.權利要求1至4任一項的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合 物含有至少一種樹脂,該樹脂的DACP值大于30℃和MMAP值大于50℃, 和/或所述壓敏粘合劑組合物含有至少一種樹脂,該樹脂的軟化點大于 95℃。
14.權利要求13的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物含有至 少一種樹脂,該樹脂的DACP值大于37℃和MMAP值大于60℃,和/或所 述壓敏粘合劑組合物含有至少一種樹脂,該樹脂的軟化點大于100℃。
15.權利要求1至4任一項的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合 物含有一種或多種添加劑,所述添加劑優選選自:增塑劑、主抗氧化劑、 輔助抗氧化劑、加工穩定劑、光穩定劑、加工助劑、末端嵌段增強樹脂、 聚合物。
16.權利要求1至4任一項的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合 物含有一種或多種填料。
17.權利要求16的用途,其特征在于,所述填料選自納米填料、透明 填料和/或吸氣劑填料和/或清除劑填料。
18.權利要求16的用途,其特征在于,所述填料在至少一個尺寸上表 現為納米尺寸形式。
19.權利要求16的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物的填料 含量為至少5wt%,和/或所述壓敏粘合劑組合物的填料含量為至多95wt%。
20.權利要求18的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物的填料 含量為至少10wt%。
21.權利要求18的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物的填料 含量為至少15wt%。
22.權利要求18的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物的填料 含量為至多70wt%。
23.權利要求18的用途,其特征在于,所述壓敏粘合劑組合物的填料 含量為至多50wt%。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





