[發明專利]光雕片聚焦誤差信號校正方法無效
| 申請號: | 200910175906.6 | 申請日: | 2009-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN102024467A | 公開(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發明(設計)人: | 賴俊文;黃偉庭;郭起祥 | 申請(專利權)人: | 廣明光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/09 | 分類號: | G11B7/09 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 史新宏 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光雕片 聚焦 誤差 信號 校正 方法 | ||
技術領域
本發明有關一種光驅,尤其是關于光驅的光學讀取頭在光雕片標簽面內環聚焦時,校正聚焦誤差信號對稱性的方法。
背景技術
一般的光盤片有兩面,一面為數據面,一面為標簽面,已知制作標簽的方法為利用筆或標簽貼紙在標簽面上做記號以為識別。近來發展出光雕(Light?Scribe)標簽的技術,利用光驅的光學讀取頭(Pick-up?Head)發射一激光,將使用者所需的圖形文字刻劃在光雕片的標簽面上,制作美觀且個人化的光盤片。
如圖1所示,為先前技術光學讀取頭讀寫光雕片標簽面示意圖。其中光雕片10標簽面內環包含了一操作特征區(Control?Feature?Zone)11,操作特征區11內緣部分設置有400個幅絲(Spoke)12,前述幅絲12以等角度的方式平均分布在操作特征區11內緣。通過對幅絲12的讀取與判斷,提供光學讀取頭20在標簽區13進行描繪時相對位置的角度定位。操作特征區11外緣部分則提供了光雕片10的相關信息記號,例如:媒體ID(Media?ID?Field)、鋸齒型式樣(saw-tooth)以及索引標記(index?mark)等,而數據記號區及非數據記號區是以相差較大光反射率的材質區分。
由于光雕片10的制造廠商、制程及材料有所差異,光學讀取頭20為在標簽區13描繪出正確的圖形文字,必須在進行描繪之前,先讀取光雕片10操作特征區11所記錄的相關信息,以便將描繪光雕片10的策略參數調整至最佳狀態。讀取信息時,先前技術的光學讀取頭20,利用不同大小的電壓形成電磁力,驅動由彈線21懸浮支撐的物鏡(Lens)22上下左右移動,并對由主軸馬達23轉動光雕片10的操作特征區11發射一激光束,根據光檢測器24中各受光部A、B、C及D所接收反射光點(Spot)25的光通量,由(A+C)-(B+D)經放大器26放大信號,計算得到聚焦誤差信號(Focusing?Error?Signal,簡稱FE)。利用零穿越的聚焦誤差信號S曲線(S-curve),讓物鏡22聚焦鎖定在操作特征區11位置,以利光學讀取頭20正確讀取操作特征區11的信息。
然而,光學讀取頭20的光路設計、制造及組裝誤差,會造成受光部(A+C)與(B+D)受光不對稱,導致產生上下不對稱的聚焦誤差信號,而無法正確聚焦。先前技術雖然使用固定的增益值G校正受光部,使FE=G(A+C)-(B+D),以消除聚焦誤差信號的上下不對稱性。但是固定的增益值G一般是以物鏡22位于光學讀取頭20中心取得。當物鏡22移離光學讀取頭20中心,因光路變化及物鏡22角度偏移,反射光點(Spot)25不對稱照射狀態亦隨之改變。固定的增益值G對其他物鏡22位置,不是太大就是可能過小,并無法改善聚焦誤差信號的不對稱性,甚至惡化不對稱性,進而容易導致聚焦伺服無法正確地進行聚焦。尤其在讀取光雕片10操作特征區的數據時,操作特征區的聚焦誤差信號原屬較差,再加上光反射率較差的非數據記號區,不對稱性聚焦誤差信號的較小一半信號將再急遽萎縮,以致漏失聚焦誤差信號而失焦,增加重新聚焦讀取時間,降低標簽描繪的效率。因此,先前技術光驅的光學讀取頭在改善聚焦誤差信號的對稱上,仍有問題亟待解決。
發明內容
本發明的目的在于提供一種光雕片聚焦誤差信號校正方法,通過徑向校正光學讀取頭的聚焦誤差信號對稱的最佳增益值,以改善聚焦誤差信號的對稱性。
本發明另一目的在于提供一種光雕片聚焦誤差信號校正方法,通過近似最佳增益值曲線,加強光雕片操作特征區的聚焦伺服,以降低聚焦的失敗機會。
本發明再一目的在于提供一種光雕片聚焦誤差信號校正方法,通過內或外插近似最佳增益值曲線,取得聚焦誤差信號對稱的最佳增益值,正確讀取操作特征區的數據,以利描繪標簽。
為了達到前述發明的目的,本發明的光雕片聚焦誤差信號校正方法,設定聚焦參考面;移動光學讀取頭至該聚焦參考面;利用徑向電壓移動物鏡至預定個校正位置,進行聚焦操作且尋找最佳增益值校正各校正位置聚焦誤差信號的不對稱性,并記錄各校正位置徑向電壓及最佳增益值;根據記錄的徑向電壓及最佳增益值,近似最佳增益值曲線;根據驅動物鏡的徑向電壓,由最佳增益值曲線取得最佳增益值,校正光雕片聚焦誤差信號的不對稱性。
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