[發明專利]電極制造方法以及電極制造裝置有效
| 申請號: | 200910175623.1 | 申請日: | 2009-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN101685854A | 公開(公告)日: | 2010-03-31 |
| 發明(設計)人: | 江元和敏;直井克夫;檜圭憲;三枝昌寬;平野政義 | 申請(專利權)人: | TDK株式會社 |
| 主分類號: | H01M4/04 | 分類號: | H01M4/04;H01G9/04;H01G9/058;H01G13/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電極 制造 方法 以及 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及電極制造方法以及電極制造裝置。
背景技術
一次電池、二次電池(特別是鋰離子二次電池)、電分解電池、電 容器(特別是電化學電容器)等的電化學裝置被廣泛地應用于各種場 合。像這樣的電化學裝置的電極通常是將活性物質層層疊于具有貫通 孔的板狀的集電體上,該活性物質層包含含有活性物質的大量粒子, 并且能夠通過將由集電體上的活性物質層所包含的成分構成的涂布液 涂布于集電體薄片而獲得。例如,在特開平11-111272號公報(專利文 獻1)中公開了將涂料液涂布在具有開孔的集電體上并加以干燥,之后 通過加壓使表面平滑化的電極。
近年來,對于將提高電極性能作為目的,通過使得在對上述集電 體設置貫通孔時所形成的毛刺(突起物)殘存并形成活性物質層,從 而提高集電體與活性物質層之間的密著性的方法進行了研究。然而, 使用上述專利文獻1中所記載的方法,在對由于具有像毛刺等那樣的 突起物而表面呈凹凸的集電體涂布上涂布液的情況下,由于集電體的 表面具有凹凸,因此具有涂布膜的均勻性下降、難以實行高精度涂布 的問題。
發明內容
本發明是鑒于上述內容而完成的,目的在于提供一種對于在表面 上具有突起物的集電體薄片,能夠均勻地涂布涂布液的電極制造方法 以及電極制造裝置。
為了達到上述目的,本發明所涉及的電極制方法,其特征在于, 具有:傾斜工序,使在一定方向上被傳送的集電體薄片的突起部在與 所述集電體薄片的傳送方向相反的方向上傾斜,其中,所述集電體薄 片具有多個貫通孔,且具有從該貫通孔的邊緣部延伸至該貫通孔之外 的突起部;和涂布工序,對通過所述傾斜工序使所述突起部傾斜并且 在所述一定方向上被傳送的所述集電體薄片涂布含有活性物質的涂布 液。
另外,本發明所涉及的電極制造裝置,其特征在于,具有:傳送 機構,在一定方向上傳送集電體薄片,所述集電體薄片具有多個貫通 孔,并且具有從該貫通孔的邊緣部延伸至該貫通孔之外的突起部;傾 斜機構,使通過所述傳送機構在一定方向上被傳送的所述集電體薄片 的突起部在與所述集電體薄片的傳送方向相反的方向上傾斜;和涂布 機構,對通過所述傾斜機構而使所述突起部傾斜并且通過所述傳送機 構在所述一定方向上被傳送的所述集電體薄片涂布含有活性物質的涂 布液。
根據上述的電極制造方法以及電極制造裝置,在與集電體薄片被 傳送的方向相反的方向上使從集電體薄片的貫通孔延伸至外面的突起 部傾斜,之后,對在相同方向上被傳送的集電體薄片涂布涂布液。因 此,在涂布涂布液的時候就能夠抑制由于從集電體薄片延伸至外面的 突起部卡住等造成的涂布膜的紊亂,從而能夠均勻地涂布涂布液。
另外,上述電極制造方法優選以下方式:所述傾斜工序和所述涂 布工序在一個承壓輥上進行,其中,所述承壓輥引導在一定方向上被 傳送的集電體薄片。
在此情況下,在集電體薄片在一個承壓輥上被引導的期間,對集 電體薄片實行針對突起部的傾斜工序和涂布液的涂布工序。因此,因 為能夠減少在傳送集電體薄片期間的異物混入等,因此能夠更進一步 地實施高精度的涂布。
在此,作為能夠有效地取得上述作用的電極制造方法,具體可以 列舉在傾斜工序中,由壓送輥相對于承壓輥來擠壓在承壓輥上被引導 的集電體薄片的突起部。
另外,作為能夠有效地取得上述作用的電極制造裝置,具體可以 列舉如下方式:進一步具備承壓輥,所述承壓輥引導通過所述傳送機 構在一定方向上被傳送的所述集電體薄片,所述涂布機構對在所述承 壓輥上被引導的所述集電體薄片涂布所述涂布液,所述傾斜機構為壓 送輥,所述壓送輥通過相對于該承壓輥而擠壓在該承壓輥上被引導的 所述集電體薄片的突起部,從而使該突起部在與所述集電體薄片的傳 送方向相反的方向上傾斜。
另外,還可以成為以下方式:在本發明所涉及的電極制造方法的 傾斜工序中,使集電體薄片通過具有間隔的縫隙的該間隔,其中,間 隔比包含突起部的集電體薄片的厚度小,且在不包含突起部的集電體 薄片的厚度以上。
另外,還可以成為以下方式:本發明所涉及的電極制造裝置的傾 斜機構為具有間隔的狹縫,其中,間隔比包含突起部的集電體薄片的 厚度小且比不包含突起部的集電體薄片的厚度大,狹縫配置為使通過 傳送機構被傳送的所述集電體薄片通過該間隔。
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