[發明專利]一種提高浮法生產中玻璃液澄清效果的方法及窯爐裝置無效
| 申請號: | 200910175207.1 | 申請日: | 2009-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN101717178A | 公開(公告)日: | 2010-06-02 |
| 發明(設計)人: | 陳發偉;李兆廷;王建強;任書明 | 申請(專利權)人: | 河北東旭投資集團有限公司 |
| 主分類號: | C03B18/02 | 分類號: | C03B18/02;C03B5/225;C03B18/16 |
| 代理公司: | 深圳市智科友專利商標事務所 44241 | 代理人: | 曲家彬 |
| 地址: | 050021 *** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 生產 玻璃 澄清 效果 方法 裝置 | ||
技術領域
本發明屬于等離子玻璃基板制造領域,涉及到浮法生產線上玻璃液的澄清過程,特別是一種提高浮法生產中玻璃液澄清效果、減少氣泡缺陷的方法及配套的澄清窯爐裝置。
背景技術
隨著科學技術的進步,玻璃基板在生產過程中的要求也逐漸提高。在各種玻璃生產中,氣泡是影響玻璃質量的一個很重要的因素,玻璃液的澄清效果直接決定殘留在玻璃中的氣泡數量,所以在生產高質量要求的玻璃時,特別是如TFT(薄膜晶體管顯示器)、PDP(等離子顯示器)等高質量要求,難熔化、難澄清的問題也隨之出現,需要有一套高效率澄清的設備,才能生產出氣泡數量少的合格玻璃板。傳統的浮法設計,將熔化和澄清集中在一個窯體,窯體內通過溫度控制分為熔化區和澄清區兩部分,在玻璃配方一定的情況下,玻璃液的澄清效果主要從澄清區的長度和澄清區的溫度兩方面來考慮的,而同樣重要的因素如澄清區玻璃液的深度,澄清區的壓力、澄清區由于耐火材料的侵蝕而新引入的氣泡等卻沒有給予考慮。鑒于PDP電子玻璃比傳統玻璃更加苛刻的要求,需要一套高效率的澄清模式,現有技術中澄清效果不佳,因此導致合格的玻璃基板較少,給本領域帶來麻煩。
發明內容
本發明的目的是為了解決提高浮法生產中玻璃液的澄清效果、進一步減少氣泡的產生率,從而生產出高質量的玻璃基板的技術問題,設計了一種提高浮法生產中玻璃液澄清效果的方法及窯爐裝置,在現有技術的窯爐中增加強制澄清區,增加玻璃液澄清的長度和時間,從而提高玻璃液的澄清效果。
本發明為實現發明目的采用的技術方案是,一種提高浮法生產中玻璃液澄清效果的方法,以上方法是在玻璃液澄清窯爐中實現的,將玻璃制材經過澄清窯爐中的熔化后、經澄清區和冷卻調整區處理后將玻璃液輸出,在澄清窯爐的澄清區和冷卻調整區之間增設強制澄清區,增加玻璃液澄清流程的長度與滯留時間,在電加熱裝置和減壓裝置伺服、配合對玻璃液進行強制澄清處理。
本發明還涉及一種浮法玻璃液澄清窯爐裝置,以上窯爐裝置的結構中包括內部空間分為熔化區、澄清區和冷卻調整區的爐體,以及設置在爐體上的進料口與出液口,澄清區與冷卻調整區借助U型墻隔開,其特征在于:所述的U型墻的數量是兩個,兩個U型墻之間借助爐體頂墻、底墻和側壁形成密閉的強制澄清區。
本發明充分考慮到浮法生產中影響澄清效果的各個因素:玻璃液澄清區的長度、澄清區的溫度、澄清區玻璃液的深度、澄清區的壓力、澄清區由于耐火材料的侵蝕而新引入的氣泡,并針對這些因素,采取了一套綜合有效的解決辦法:雙U型墻結構組成的強制澄清區的長度是原有的2倍,澄清時間長,效果明顯;以鉑金為電極的電加熱裝置,可以按照需要對流入的玻璃液進行加熱;減壓裝置可以將整個空間內的氣壓控制在負壓狀態,以利于加快氣泡的排出速度;整個空間內,凡和玻璃接觸的耐火材料,都用鉑金薄片進行了包裹,這樣既可以延長耐火材料的使用周期,又可以減少由于耐火材料受侵蝕而引入的新的氣泡;強制澄清部玻璃液的深度由傳統深度1000mm減少到250-350mm,這就大大減少了氣泡在上升過程的路程,提高排泡效率。
下面結合附圖對本發明進行詳細說明。
附圖說明
圖1是本發明的窯爐裝置結構仰視圖。
圖2是本發明的窯爐裝置正面透視圖。
附圖中,A是熔化區,B是澄清區,C是強制澄清區,D是冷卻調整區,1-1、1-2是U型墻,2是減壓裝置,3是電加熱裝置。
具體實施方式
一種提高浮法生產中玻璃液澄清效果的方法,以上方法是在玻璃液澄清窯爐中實現的,將玻璃制材經過澄清窯爐中的熔化后、經澄清區和冷卻調整區處理后將玻璃液輸出,在澄清窯爐的澄清區B和冷卻調整區D之間增設強制澄清區C,增加玻璃液澄清流程的長度與滯留時間,在電加熱裝置3和減壓裝置2伺服、配合對玻璃液進行強制澄清處理。
在澄清窯爐中強制澄清區C的底部、側墻壁、以及與玻璃液接觸的耐火材料上都設置有一層鉑金鍍層。
將強制澄清區C的玻璃液深度控制在250-350mm。
上述的電加熱裝置3的電極是鉑金電極,電加熱裝置分為5組,每組的最大功率為200kw。
上述的減壓裝置2將強制澄清區C的壓力范圍控制在-10pa~-5pa。
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