[發(fā)明專利]光刻設(shè)備和濕度測量系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910175167.0
• 申請日: 2009-09-25
• 公開（公告）號: CN101713732A
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: L·范道仁;J·H·W·雅各布斯;W·A·瓊格爾
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G01N21/39
• 分類號: G01N21/39;G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王新華

1.一種濕度測量系統(tǒng)，包括：

可調(diào)諧激光二極管，配置以發(fā)射測量輻射束，所述測量輻射束具有在 一波長范圍內(nèi)的波長，所述波長范圍包括與水分子的吸收峰相關(guān)的第一波 長；和

連接至輻射探測器的信號處理單元，所述輻射探測器被配置以測量經(jīng) 受吸收的所述可調(diào)諧激光二極管的測量輻射束的強度，并且所述信號處理 單元被連接至所述可調(diào)諧激光二極管，用于獲得波長信息，

其中，所述信號處理單元被布置以探測作為所述波長的函數(shù)的在測量 強度中的極限值和由所述探測的極限值計算濕度值，

其中，在所述濕度測量系統(tǒng)用在光刻設(shè)備中時，所述濕度測量系統(tǒng)連 接至光刻設(shè)備中的干涉計位置測量系統(tǒng)，所述干涉計位置測量系統(tǒng)被配置 以接收來自所述濕度測量系統(tǒng)的用于校正目的的濕度數(shù)據(jù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕度測量系統(tǒng)，其中，所述第一波長是 1877nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濕度測量系統(tǒng)，其中，所述波長范圍是 1877nm+/-1.5nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的濕度測量系統(tǒng)，其中，在不同 于所述第一波長的第二波長處的測量強度用于確定在所述第一波長處的 參考值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的濕度測量系統(tǒng)，還包括分束器， 所述分束器被配置以接收來自所述可調(diào)諧激光二極管的所述測量輻射束 和將基于所述測量輻射束的參考束引導(dǎo)至另一輻射探測器，所述另一輻射 探測器連接至所述信號處理單元且配置成提供參考強度信號。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項所述的濕度測量系統(tǒng)，其中，所述信 號處理單元進一步被布置以基于濕度模型確定濕度值，所述濕度模型接收 測量強度值和在所述測量輻射束中的溫度和壓力。

7.一種光刻設(shè)備，被布置以從圖案形成裝置將圖案轉(zhuǎn)移至襯底上， 所述光刻設(shè)備包括干涉計位置測量系統(tǒng)和根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項所 述的濕度測量系統(tǒng)。

8.一種光刻設(shè)備，包括：

支撐件，構(gòu)造和布置以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置被配置 以圖案化輻射束；

襯底支撐件，構(gòu)造和布置以支撐襯底；

投影系統(tǒng)，構(gòu)造和布置以將圖案化的輻射束投影到所述襯底上；

干涉計位置測量系統(tǒng)，構(gòu)造和布置以測量所述襯底的位置；和

濕度測量系統(tǒng)，連接至所述干涉計位置測量系統(tǒng)，所述濕度測量系統(tǒng) 包括：

可調(diào)諧激光二極管，配置以發(fā)射測量輻射束，所述測量輻射束具 有在一波長范圍內(nèi)的波長，所述波長范圍包括與水分子的吸收峰相關(guān)的第 一波長；和

連接至輻射探測器的信號處理單元，所述輻射探測器被配置以測量經(jīng) 受吸收的所述可調(diào)諧激光二極管的測量輻射束的強度，且所述信號處理單 元連接至所述可調(diào)諧激光二極管，用于獲得波長信息，其中，所述信號處 理單元被布置以探測作為所述波長的函數(shù)的在測量強度中的極限值和由 所探測的極限值計算濕度值，

其中，所述干涉計位置測量系統(tǒng)被配置以接收來自所述濕度測量系統(tǒng) 的用于校正目的的濕度數(shù)據(jù)。