[發明專利]氣體分布板及其裝置無效
| 申請號: | 200910174059.1 | 申請日: | 2009-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN102041484A | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發明(設計)人: | 簡榮禎;劉俊岑;楊宏仁;沈添沐;梁沐旺 | 申請(專利權)人: | 財團法人工業技術研究院 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 分布 及其 裝置 | ||
1.一種氣體分布板,包括:
板體,中央部位具有凹槽;
第一通道,其一端與該凹槽相連通,另一端貫穿該板體;
錐形開孔,該錐形開孔與該第一通道相連通;以及
至少一第二通道,其開設于該板體上與該錐形開孔相連通。
2.如權利要求1所述的氣體分布板,其中該至少一第二通道環設在該第一通道的周圍。
3.如權利要求1所述的氣體分布板,其中該第二通道的中心軸與該第一通道的中心軸平行。
4.如權利要求1所述的氣體分布板,其中該第二通道的中心軸與該第一通道的中心軸成一夾角。
5.如權利要求1所述的氣體分布板,其中該凹槽是使用機械加工方式將板體中央部位加工形成凹槽或者是使用焊接的方式形成該凹槽。
6.如權利要求5所述的氣體分布板,其中該凹槽的一側還具有至少一供氣通道。
7.如權利要求1所述的氣體分布板,其中該第一通道與該板體為一體成型或者是該第一通道利用螺接或緊密配合的方式連接于該板體上。
8.一種氣體分布裝置,包括:
氣體導引部,其提供導引一第一氣體;
氣體分布板,其與該氣體導引部相連接,該氣體分布板具有:
板體,中央部位具有一凹槽;
多個第一通道,每一個第一通道的一端與該凹槽相連通,另一端貫穿該板體,每一個第一通道與該氣體導引部相連通,以接收該第一氣體,其中每一個第一通道一側還具有至少一第二通道以提供導引一第二氣體;以及
多個錐形開孔,每一個錐形開孔與該每一個第一通道以及每一第一通道一側所具有的至少一第二通道相連通。
9.如權利要求8所述的氣體分布裝置,其中該凹槽使用機械加工方式將板體中央部位加工形成凹槽或者是使用焊接的方式形成該凹槽。
10.如權利要求9所述的氣體分布裝置,其中該凹槽的一側還具有至少一供氣通道,以提供該第二氣體進入該凹槽。
11.如權利要求8所述的氣體分布裝置,其中該至少一第二通道環設在該第一通道的周圍。
12.如權利要求8所述的氣體分布裝置,其中該第二通道的中心軸與該第一通道的中心軸平行。
13.如權利要求8所述的氣體分布裝置,其中該第二通道的中心軸與該第一通道的中心軸成一夾角。
14.如權利要求8所述的氣體分布裝置,其中該氣體導引部還具有:
第一板體,其設置于該板體的第一表面上,該第一板體的一側面上開設有第一槽體,而在另一側面上具有與該第一槽體相連通的多個凸管,每一個凸管的一端與對應的該第一通道相連通;以及
第二板體,其蓋設于該第一板體上,該第二板體上具有一供氣通孔與該第一槽體相連通,該供氣通孔提供該第一氣體通過。
15.如權利要求14所述的氣體分布裝置,其還具有設置于該第一板體與該第二板體之間的一第三板體,該第三板體具有第二槽體,該第二槽體底面上開設有多個與該第一槽體相連通的通孔。
16.如權利要求8所述的氣體分布裝置,其中該第二表面還偶接有反應腔室。
17.如權利要求14所述的氣體分布裝置,其中該第一板體與該多個凸管利用螺接或緊密配合的方式連接于該板體上。
18.如權利要求16所述的氣體分布裝置,其中該第二氣體經由該凹槽流入該第二通道內。
19.一種氣體分布板,包括:
板體,中央部位具有凹槽,該板體具有第一表面與第二表面;
第一通道,其貫通該板體的凹槽,該第一通道在該第二表面上還具有第一錐形開孔;
第二通道,其開設于該板體內,該第二通道的中心軸與該第一表面平行;以及
第三通道,其開設于該板體上的第二表面上而與該第二通道相連通,該第三通道在該第二表面上還具有第二錐形開孔。
20.如權利要求19所述的氣體分布板,其中該凹槽是使用機械加工方式將板體中央部位加工形成凹槽或者是使用焊接的方式形成該凹槽。
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C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





