[發明專利]電光學裝置及電子設備有效
| 申請號： | 200910173477.9 | 申請日： | 2009-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN101713881A | 公開（公告）日： | 2010-05-26 |
| 發明（設計）人： | 川上泰 | 申請（專利權）人： | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號： | G02F1/1333 | 分類號： | G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1368;G02B27/18 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 劉建 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 裝置 電子設備 | ||
1.一種電光學裝置，其特征在于，具有：
相互對置的第一基板和透光性的第二基板；
液晶層，其夾持在所述第一基板與所述第二基板之間；
反射性電極，其設置在所述第一基板與所述液晶層之間，構成像素電 極和公共電極之中的一個；
透光性電極，其設置在所述第二基板與所述液晶層之間，構成所述像 素電極和所述公共電極之中的另一個；
第一電介質層，其設置在所述反射性電極與所述液晶層之間，由多個 電介質膜構成；和
第二電介質層，其設置在所述透光性電極與所述液晶層之間，由一層 或多層電介質膜構成。
2.根據權利要求1所述的電光學裝置，其特征在于，
所述第一電介質層中在最靠近所述液晶層一側設置的電介質膜與所 述第二電介質層中在最靠近所述液晶層一側設置的電介質膜由相同材料 形成。
3.根據權利要求1所述的電光學裝置，其特征在于，
所述第二電介質層由一層電介質膜構成。
4.根據權利要求2所述的電光學裝置，其特征在于，
所述第二電介質層由一層電介質膜構成。
5.根據權利要求1至4的任一項所述的電光學裝置，其特征在于，
所述反射性電極是像素電極，
所述透光性電極是公共電極。
6.根據權利要求1至4的任一項所述的電光學裝置，其特征在于，
所述反射性電極由鋁系材料形成。
7.根據權利要求5所述的電光學裝置，其特征在于，
所述反射性電極由鋁系材料形成。
8.一種電子設備，其特征在于，
具備權利要求1至7的任一項所述的電光學裝置。
9.根據權利要求8所述的電子設備，其特征在于，具備： 光源部，其用于向所述電光學裝置提供光；和
投射光學系統，其投射被所述電光學裝置光調制后的光。
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