[發(fā)明專(zhuān)利]用于校正粒子光學(xué)裝置中的畸變的方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910173281.X
• 申請(qǐng)日: 2009-09-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101685754A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A·F·德瓊;U·盧肯;P·C·蒂梅杰;H·N·斯林杰蘭
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: FEI公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01J37/26
• 分類(lèi)號(hào): H01J37/26;H01J37/252;H01J37/244
• 代理公司: 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司
• 代理人: 王 岳;丁永凡

1.一種用于校正粒子光學(xué)裝置的畸變的方法，該粒子光學(xué)裝置包括：

·粒子源(101)，用于生成粒子束，

·物平面，其上可放置將要成像的物體(111)，

·聚光系統(tǒng)(104)，用于利用粒子束照射物平面，

·投影系統(tǒng)(106)，用于通過(guò)將透過(guò)物體的粒子成像到像平面上來(lái)形成物平面的放大圖像，該投影系統(tǒng)引起畸變，以及

·檢測(cè)器(150)，用于檢測(cè)該放大圖像，

該方法包括：

·形成畸變被至少部分校正的圖像，

其特征在于

·該檢測(cè)器包括多極(152)，并且

·按照至少部分校正放大圖像中的畸變的方式激勵(lì)多極。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在形成物體的放大圖像之前通過(guò)以下步驟確定投影系統(tǒng)的畸變：

·生成圖案，

·形成所述圖案的放大圖像，

·測(cè)量所引起的畸變，

以及激勵(lì)多極以至少部分校正畸變。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中通過(guò)利用粒子束照射具有已知圖案透明區(qū)域的光闌(200)來(lái)生成圖案。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中通過(guò)以已知掃描模式掃描粒子束來(lái)生成圖案。

5.根據(jù)權(quán)利要求2-4中任一項(xiàng)所述的方法，其中該投影系統(tǒng)在中間像平面(110)中形成物平面的至少一個(gè)中間圖像，從物平面到中間像平面的放大率小于從物平面到像平面的放大率，并且在中間像平面處生成該圖案。

6.根據(jù)權(quán)利要求2-5中任一項(xiàng)所述的方法，該方法還包括：

·確定該裝置不同設(shè)定下的畸變，該不同設(shè)定包括投影系統(tǒng)的不同放大率和/或照射物體位置的粒子的不同能量，

·針對(duì)不同設(shè)定形成數(shù)據(jù)組，

此后針對(duì)使物體成像所使用的放大率和能量設(shè)置該投影系統(tǒng)，并且利用所述數(shù)據(jù)組激勵(lì)多極以至少部分校正畸變。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中該數(shù)據(jù)組表示涉及校正投影系統(tǒng)的不同設(shè)定時(shí)的畸變所需的對(duì)多極的激勵(lì)的信息。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中該數(shù)據(jù)組表示描述投影系統(tǒng)的不同設(shè)定時(shí)的畸變的系數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求6-8中任一項(xiàng)所述的方法，其中通過(guò)對(duì)該數(shù)據(jù)組進(jìn)行插值或曲線擬合來(lái)確定對(duì)多極的激勵(lì)。

10.根據(jù)權(quán)利要求2-9中任一項(xiàng)所述的方法，其中由一組參數(shù)描述畸變，并且將預(yù)定的相對(duì)多極激勵(lì)組用于使每個(gè)參數(shù)為零，每個(gè)相對(duì)多極激勵(lì)組用于使參數(shù)之一為零。