[發明專利]成膜裝置、基板處理裝置及成膜方法

有效

• 申請號: 200910172127.0
• 申請日: 2009-09-04
• 公開（公告）號: CN101665927A
• 公開（公告）日: 2010-03-10
• 發明（設計）人: 加藤壽;本間學
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;H01L21/00;H01L21/316
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種成膜裝置，在真空容器內將相互反應的至少兩種反 應氣體按順序供給到基板的表面上且執行該供給循環，從而層 疊多層反應生成物的層而形成薄膜，該成膜裝置包括：

旋轉臺，其設置在上述真空容器內；

基板載置部，其為了將基板載置在上述旋轉臺的基板載置 面上而設置；

第1反應氣體供給部件及第2反應氣體供給部件，沿上述旋 轉臺的旋轉方向相互分開地設置，在上述旋轉臺的基板載置面 側分別將第1反應氣體、第2反應氣體供給到第1處理區域和第2 處理區域；

分離區域，其為了分離上述第1處理區域和第2處理區域的 氣氛而在上述旋轉方向上位于第1處理區域和第2處理區域之 間，該分離區域包括頂面和用于將第1分離氣體供給到該分離 區域的第1分離氣體供給部件，該頂面位于該第1分離氣體供給 部件的上述旋轉臺的旋轉方向兩側，在頂面與旋轉臺之間形成 有用于使分離氣體從該分離區域流到處理區域側的狹窄的空 間；

中心部區域，其為了分離上述第1處理區域和上述第2處理 區域的氣氛而位于真空容器內的中心部，且形成有用于將第2 分離氣體噴出到旋轉臺的基板載置面側的噴出孔；

排氣口，其用于將擴散到上述分離區域的兩側的上述第1 分離氣體、從上述中心部區域噴出的上述第2分離氣體、上述 第1及第2反應氣體一起排出；

驅動部，以使上述基板通過上述第1處理區域時的上述旋 轉臺的角速度與使上述基板通過上述第2處理區域時的旋轉臺 的角速度為不同的角速度的方式使上述旋轉臺旋轉。

2.根據權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

該成膜裝置還具有自上述中心部區域供給上述第2分離氣 體的第2分離氣體供給部件，

上述分離區域的頂面與上述旋轉臺的基板載置面相對，

上述排氣口設于比旋轉臺低的位置，經由該旋轉臺的周緣 與上述真空容器的內壁面之間的間隙排出擴散到上述分離區域 兩側的上述第1分離氣體、從上述中心部區域噴出的上述第2分 離氣體以及上述第1、第2反應氣體。

3.根據權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

上述基板載置部具有形成在上述旋轉臺的基板載置面上的 凹狀部，

被載置在上述凹狀部中的上述基板的表面位于與上述旋轉 臺的基板載置面相同高度的位置或位于比上述旋轉臺的基板載 置面低的位置。

4.根據權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

為了自上述真空容器的外部向內部輸送上述基板而在上述 真空容器的側壁上設有利用閘閥進行開閉的輸送口。

5.根據權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

該成膜裝置還具有用于對上述旋轉臺進行加熱的加熱部 件。

6.根據權利要求5所述的成膜裝置，其特征在于，

上述加熱部件設于上述旋轉臺的下方。

7.根據權利要求5所述的成膜裝置，其特征在于，

上述加熱部件設于上述旋轉臺的上方。

8.一種基板處理裝置，其特征在于，該基板處理裝置包括：

真空輸送室，其在內部配置有基板輸送部件；

權利要求1所述的成膜裝置，其氣密地與上述真空輸送室 相連接；

預備真空室，其氣密地與上述真空輸送室相連接，能在真 空氣氛和大氣氣氛之間切換氣氛。