[發(fā)明專利]用于閃蒸霧化的表面處理和涂層

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910172061.5
• 申請日: 2009-08-28
• 公開（公告）號: CN101658823A
• 公開（公告）日: 2010-03-03
• 發(fā)明（設計）人: L·W·斯萬森
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: B05B1/00
• 分類號: B05B1/00;B05B15/00;B05B17/00;B01J19/26;B01D53/78;B01D53/86;B01D53/56;B01D53/94
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 嚴志軍;劉華聯

1.一種閃蒸霧化器，包括：?

通道基底，設置在所述閃蒸霧化器內，以便產生蒸汽和形成流體的兩相流；和?

增強表面，設置在所述通道基底上，且構造成以便改變形成所述蒸汽所需的溫度和壓力，其中，所述增強表面結構包括構造成以便促進異質氣泡成核的多個活化成核位置。?

2.根據權利要求1所述的閃蒸霧化器，其特征在于，所述增強表面包括所述通道基底上的涂層。?

3.根據權利要求2所述的閃蒸霧化器，其特征在于，所述涂層包括結合到所述通道基底上的多孔金屬基質，其中，所述多孔金屬基質包括限定了所述多個活化成核位置的多個互連孔隙。?

4.根據權利要求1所述的閃蒸霧化器，其特征在于，所述增強表面包括結構化型式，其中，所述結構化型式包括限定了所述多個活化成核位置的多個表面特征。?

5.根據權利要求1所述的閃蒸霧化器，其特征在于，所述通道基底包括0.1毫米到50毫米的長度尺寸。?

6.根據權利要求1所述的閃蒸霧化器，其特征在于，所述通道基底包括10微米到2000微米的直徑。?

7.根據權利要求1所述的閃蒸霧化器，其特征在于，所述通道基底包括1到200的長度-液壓直徑比。?

8.根據權利要求1所述的閃蒸霧化器，其特征在于，所述多個活化成核位置減少了開始泡核沸騰所需要的過熱。?

9.根據權利要求1所述的閃蒸霧化器，其特征在于，所述增強表面延伸到所述通道基底中0.01微米到500微米的深度。?

10.一種用于控制來自燃燒系統的氮氧化物的排放的裝置，包括：?

與包含所述氮氧化物的排氣處于流體連通的噴射器，其中，所述噴射器構造成以便將霧化的化學還原劑噴射到所述排氣中，其中，所述化學還原劑設置成以便將所述氮氧化物轉化成氮；和?

與所述噴射器處于流體連通并構造成以便使所述化學還原劑霧化的閃蒸霧化系統，其中，所述閃蒸霧化系統包括：?

構造成以便由所述化學還原劑產生蒸汽和形成兩相化學還原劑流的通道基底；和?

設置在所述通道基底上并構造成以便改變形成所述蒸汽所需的溫度和壓力的增強表面，其中，所述增強表面結構包括構造成以便促進異質氣泡成核的多個活化成核位置。?

11.根據權利要求10所述的裝置，其特征在于，所述化學還原劑為氨、尿素、燃料、燃料混合物或者包括前述化學還原劑中的至少一種的組合。?

12.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述增強表面包括所述通道基底上的涂層。?

13.根據權利要求12所述的裝置，其特征在于，所述涂層包括結合在所述通道基底上的多孔金屬基質，其中，所述多孔金屬基質包括限定了所述多個活化成核位置的多個互連孔隙。?

14.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述增強表面包括結構化型式，其中，所述結構化型式包括限定了所述多個活化成核位置的多個表面特征。?

15.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述通道基底包括0.1毫米到50毫米的長度。?

16.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述通道基底包括10微米到2000微米的直徑。?

17.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述通道基底包括1到200的長度-液壓直徑比。?

18.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述增強表面延伸到所述通道基底中0.01微米到500微米的深度。?

19.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述多個活化成核位置減少了開始泡核沸騰所需要的過熱。?

20.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述排氣中的氮氧化物被減少了20％至80％。?