[發明專利]光電組件及其制造方法以及具有多個光電組件的裝置有效
| 申請號: | 200910171922.8 | 申請日: | 2005-02-18 |
| 公開(公告)號: | CN101685823A | 公開(公告)日: | 2010-03-31 |
| 發明(設計)人: | 拉爾夫·維爾特;赫貝特·布倫納;斯特凡·伊萊克;迪特爾·艾斯勒 | 申請(專利權)人: | 奧斯蘭姆奧普托半導體有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15;H01L21/8222;H01L31/0224;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 | 代理人: | 陳 煒;許偉群 |
| 地址: | 德國雷*** | 國省代碼: | 德國;DE |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光電 組件 及其 制造 方法 以及 具有 裝置 | ||
1.一種光電組件(1),包括具有有源區(400)和橫向的主延伸方向的 半導體功能區域(2),其特征在于,
-所述半導體功能區域具有至少一個穿過所述有源區的貫穿部(9、 27、29),并在所述貫穿部的區域內設置有連接導體材料(8),其與所述 有源區至少在所述貫穿部的一部分區域內電隔離,并且
-在所述半導體功能區域之后設置有至少一種吸收物質或一種熒光 物質。
2.根據權利要求1所述的光電組件,其特征在于,所述連接導體材料(8) 至少部分地通過隔離材料(10)與所述有源區(400)電隔離。
3.根據權利要求1或2所述的光電組件,其特征在于,所述貫穿部構建 為在橫向上的凹處(27),或者側面(26)具有在橫向上的凹處。
4.根據權利要求2所述的光電組件,其特征在于,所述隔離材料(10) 至少部分地涂覆所述貫穿部(9、27、29),或者至少部分地設置在側面 (26)上。
5.根據權利要求1或2所述的光電組件,其特征在于,所述貫穿部(9、 27、29)在垂直方向上穿過整個所述半導體功能區域(2)而延伸。
6.根據權利要求1或2所述的光電組件,其特征在于,所述半導體功能 區域(2)具有第一主面(6)和與所述第一主面關于所述有源區(400) 對置的第二主面(13),并且所述半導體功能區域在所述第一主面側與所 述連接導體材料(8)導電地相連接。
7.根據權利要求6所述的光電組件,其特征在于,所述連接導體材料(8) 與所述半導體功能區域(2)的所述第二主面(13)電隔離。
8.根據權利要求1或2所述的光電組件,其特征在于,所述貫穿部(9、 27、29)的橫向的尺寸為100μm。
9.根據權利要求1或2所述的光電組件,其特征在于,所述半導體功能 區域(2)至少部分地由包封(4)成形。
10.根據權利要求9所述的光電組件,其特征在于,所述包封(4)對于 待由所述有源區(400)產生或接收的輻射是能穿透的。
11.根據權利要求1或2所述的光電組件,其特征在于,所述有源區(400) 被密閉的封裝(16)包圍。
12.根據權利要求1或2所述的光電組件,其特征在于,所述半導體功 能區域(2)設置在承載體(3)上。
13.根據權利要求12所述的光電組件,其特征在于,所述連接導體材料 (8)一直延伸到所述承載體的與所述半導體功能區域對置的一側。
14.根據權利要求1或2所述的光電組件,其特征在于,所述組件(1) 能夠在晶片復合(300、200)中實現。
15.根據權利要求1或2所述的光電組件,其特征在于,所述貫穿部(9、 27、29)的橫向的尺寸為50μm或更小。
16.一種光電組件(1),包括具有有源區(400)和橫向的主延伸方向的 半導體功能區域(2),其特征在于,
-所述半導體功能區域具有橫向的、形成所述有源區邊界的側面 (26),并在橫向上在所述側面之后設置有連接導體材料(8),其與所述 有源區至少在所述側面的一部分區域內電隔離,并且
-在所述半導體功能區域之后設置有至少一種吸收物質或一種熒光 物質。
17.根據權利要求16所述的光電組件,其特征在于,所述連接導體材料 (8)至少部分地通過隔離材料(10)與所述有源區(400)電隔離。
18.根據權利要求16或17所述的光電組件,其特征在于,所述貫穿部 構建為在橫向上的凹處(27),或者側面(26)具有在橫向上的凹處。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于奧斯蘭姆奧普托半導體有限責任公司,未經奧斯蘭姆奧普托半導體有限責任公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910171922.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:氮化鎵基外延晶片及外延晶片的制作方法
- 下一篇:控制質量分析器中的離子數目
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





