[發明專利]微流體系統用支持單元及其制造方法

無效

• 申請號: 200910171903.5
• 申請日: 2005-12-09
• 公開（公告）號: CN101664662A
• 公開（公告）日: 2010-03-10
• 發明（設計）人: 赤井邦彥;河添宏
• 申請（專利權）人: 日立化成工業株式會社
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;B81B3/00
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司
• 代理人: 鐘 晶

本申請是原申請的申請日為2005年12月9日，申請號為200580042277X，發明名稱為《微流體系統用支持單元及其制造方法》的中國專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及以中空絲作為流路的微流體系統用支持單元及其制造方法。

背景技術

在化學或生物化學的領域，正在進展關于應用MEMS(Micro?ElectroMechanical?System)技術的反應系或分析裝置的小型化的研究，正在進行關于作為其中構成要素之一的微型泵、微型閥這樣的具有單一功能的機械要素(微型機器)的研究開發(例如參照莊子，《化學工業》，化學工業社，2001年11月，第52卷，第11號，42-46頁，及前田，《エレクトロニクス實裝學會志》，社團法人エレクトロニクス實裝學會，2002年1月，第5卷，第1號，25-27頁)。

近年來，將這些功能通過微小流路作為回路(系統)，以進行目的的化學反應或化學分析的研究正在盛行。一般說來，那些系統的完成形被稱為微反應器系統(Micro?Reactor?System)、微化學分析系統(MicroTotal?Analysis?System：μTAS)等。現在，作為該微小流路，例如提出了以使用蝕刻等在玻璃等的表面形成的溝作為微小流路的芯片型基板。該芯片型流路基板應用了半導體或者印刷電路板的光刻法技術。

另一方面，以中空絲作為流路的微流體系統用支持單元，具有要么容易實現在芯片型流路基板上為困難的流路層的多層化(交叉)，要么容易選擇作為流路的中空絲的材料等特長，有利于形成復雜的流路回路。其制造方法，提出過，將已在薄膜狀的材料上敷設成任意形狀的中空絲群，用同樣的薄膜狀材料進行層壓的方法等(例如參照日本特開2004-174701號公報)。

作為進行敷設的裝置，例如在日本特公昭50-9346號公報中提出了能夠在導線上一邊施加載荷和超聲波振動一邊敷設的裝置，在日本特公平7-95622號公報中提出了能夠一邊施加載荷和照射激光一邊敷設的裝置，在日本特開2001-59910號公報中提出了在配線體(光纖)上施加載荷，向粘接劑層面進行布線的布線裝置。

發明內容

但是，若使用如上所述的層壓方法，當被敷設的中空絲的外徑規格不同時，或在該中空絲發生交叉的部分，會在微流體系統用支持單元的表面產生凹凸。于是，當上述微流體系統用支持單元的表面被施加強外力時，力就會集中在凸部分，發生中空絲破損或變形的問題。進而中空絲的變形，還會引起絲內的流路形狀的變形，發生流體堵塞或壓力損失變大等問題。再有，如果被敷設的中空絲的數增多，就會有中空絲相互的交叉增加而凹凸數增加的問題。

而且，若使用上述的進行層壓的方法，在中空絲的具有交叉的部分，因層壓壓力而中空絲容易破損或變形，在層壓時必須使用適宜的緩沖材料。

另外，若使用上述的進行層壓的方法，在具有外徑不同的數根中空絲的部分，因層壓的壓力而外徑越大的中空絲越容易破損或變形，在層壓時必須使用適宜的緩沖材料。

另外，在中空絲的交叉部，由于基材和中空絲接觸的面積減少，中空絲的固定力變弱，有中空絲移動而引起位置偏移這樣的問題。

本發明就是為了解決如上所述的問題而進行的，目的是提供表面凹凸少、并且與進行層壓的方法相比能夠抑制在微流體系統用支持單元制造時的中空絲交叉部及具有外徑不同的數根中空絲的部分的破損·變形的、還能夠減低中空絲的交叉部的位置偏移的微流體系統用支持單元及其制造方法。

本發明涉及(1)微流體系統用支持單元，其具有基材和設置在該基材上的固定層，在該固定層中有至少一根中空絲的一部分被敷設成任意的形狀而被固定。

另外，本發明涉及(2)具有覆蓋至少一部分基材和固定層的保護層的上述(1)記載的微流體系統用支持單元。

另外，本發明(3)涉及具有保護層和設置在該保護層上的固定層，在該固定層中有至少一根中空絲的一部分被敷設成任意的形狀而被固定的微流體系統用支持單元。

另外，本發明涉及(4)具有中間層和設置在該中間層上的固定層，在該固定層中有至少一根中空絲的一部分被敷設成任意的形狀而被固定的微流體系統用支持單元。

另外，本發明(5)涉及在固定層中有至少一根中空絲的一部分被敷設成任意的形狀而被固定的微流體系統用支持單元。

另外，本發明涉及(6)在基材和固定層之間設置有中間層的上述(1)或者(2)記載的微流體系統用支持單元。