[發明專利]對磁場均勻性不足進行補償的方法和裝置

有效

• 申請號: 200910169695.5
• 申請日: 2009-08-31
• 公開（公告）號: CN101995560A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發明（設計）人: 陳進軍;倪成
• 申請（專利權）人: 西門子邁迪特(深圳)磁共振有限公司
• 主分類號: G01R33/387
• 分類號: G01R33/387
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種對磁場均勻性不足進行補償的方法，包括：

確定待勻場的主磁場區域和至少一個附加磁場區域在空間中的位置和大小；

對主磁場區域和至少一個附加磁場區域的磁場進行優化計算；

根據所述優化計算的結果，在主磁場區域和至少一個附加磁場區域輸出均勻磁場。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述進行優化計算包括：

計算在主磁場和至少一個附加磁場中形成勻場時，最優化的勻場電流的分布或最優化的勻場片的分布。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述計算包括：

對于主磁場區域和至少一個附加磁場區域，分別求拉普拉斯方程的解，其中B為期望在所述主磁場區域和至少一個附加區域中形成的勻場的磁感應強度；

使所述拉普拉斯方程求解得到的所有諧波趨近于零，以獲得最優化的勻場電流的分布或最優化的勻場片的分布。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據優化計算的結果在主磁場區域和至少一個附加磁場區域輸出均勻磁場包括：

根據計算出的最優化的勻場電流的分布，給不同階數的勻場線圈通相應的電流；

或者，

根據計算出的最優化的勻場片的分布，在勻場片固定器中布置多個勻場片。

5.根據所述權利要求1至4中任一項所述的方法，其特征在于，所述主磁場區域與至少一個附加磁場區域中的所有區域在空間上相互獨立，或者其中一個或多個區域與其他區域有部分重疊。

6.一種對磁場均勻性不足進行補償的裝置，其特征在于，包括：

一個磁場區域確定單元，用于確定待勻場的主磁場區域和至少一個附加磁場區域在空間中的位置和大小；

一個磁場優化單元，用于對主磁場區域和至少一個附加磁場區域的磁場進行優化計算；

一個磁場輸出單元，用于根據所述優化計算的結果，在主磁場區域和至少一個附加磁場區域輸出均勻磁場。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述磁場優化單元計算在主磁場和至少一個附加磁場中形成勻場時，最優化的勻場電流的分布或最優化的勻場片的分布。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述磁場輸出單元包括勻場電流控制單元和勻場片控制單元中的全部或任一個，其中：

所述勻場電流控制單元，用于根據所述最優化的勻場電流的分布，給不同階數的勻場線圈通相應的電流；

所述勻場片控制單元，用于根據所述最優化的勻場片的分布，在勻場片固定器中布置多個勻場片。