[發(fā)明專利]顯示裝置和所述顯示裝置的前蓋有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910169160.8 | 申請日: | 2009-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN101718917A | 公開(公告)日: | 2010-06-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉炯準(zhǔn);李鉉珠;金相學(xué);林正洙 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;F21V7/10;F21V33/00;F21Y101/02 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王新華 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,包括:
形成圖像的顯示模塊;
前蓋,所述前蓋遮蓋所述顯示模塊的前表面的邊緣;
鍵盤式顯示器,所述鍵盤式顯示器設(shè)置在所述前蓋處;
至少一個發(fā)光單元,所述至少一個發(fā)光單元將光發(fā)射到所述鍵盤式顯 示器;和
至少一個導(dǎo)光通道,所述至少一個導(dǎo)光通道設(shè)置在所述鍵盤式顯示器 處,并圍起隨著遠(yuǎn)離所述發(fā)光單元而減小的橫截面面積;
所述前蓋包括透光部,從所述發(fā)光單元發(fā)射的光通過所述透光部透射;
所述透光部包括限定所述前蓋的外表面的向外露出的第一厚度部分和 限定所述前蓋的內(nèi)表面的第二厚度部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述鍵盤式顯示器包括露 光點,所述露光點在距離所述發(fā)光單元最遠(yuǎn)的位置處形成在所述導(dǎo)光通道 處,并且具有最小的橫截面面積。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述導(dǎo)光通道包括與所述 發(fā)光單元相鄰的第一入射面和至少一個第二入射面,所述至少一個第二入 射面圍起與所述第一入射面的橫截面面積不同的橫截面面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述導(dǎo)光通道沿所述前蓋 的厚度方向成凹入拱頂形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述導(dǎo)光通道的內(nèi)周邊沿 所述前蓋的厚度方向包括多層階梯狀結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述導(dǎo)光通道包括至少兩 個入射面,所述光被引入到所述至少兩個入射面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中:
所述第二厚度部分能夠?qū)碜运霭l(fā)光單元的光透射到所述第一厚度 部分;并且
所述第一厚度部分由透明材料制成,而所述第二厚度部分由半透明材 料制成。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置,其中,所述第一入射面和所述至 少一個第二入射面限定階梯狀結(jié)構(gòu),以允許從所述發(fā)光單元發(fā)射的光在不 同的方向上被散射和反射。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置,其中,所述多層階梯狀結(jié)構(gòu)通過 多階段的激光加工形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示裝置,其中,所述導(dǎo)光通道以預(yù)定的 傾斜角度沿所述前蓋的厚度方向通過所述第一厚度部分和所述第二厚度部 分凹陷。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述前蓋包括上部、下 部、左部和右部,并且所述鍵盤式顯示器設(shè)置在所述上部、所述下部、所 述左部和所述右部中的至少一個上。
12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其中,所述鍵盤式顯示器通過 結(jié)合所述露光點而采取字母、數(shù)字和符號的形式。
13.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其中,反射器設(shè)置在所述顯示 模塊與所述發(fā)光單元之間,以便能夠?qū)⑺龉饩鶆虻貍魉偷剿雎豆恻c。
14.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其中,漫射器設(shè)置在所述發(fā)光 單元與所述至少一個導(dǎo)光通道之間,以便能夠?qū)⑺龉饩鶆虻貍魉偷剿? 露光點。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述發(fā)光單元包括LED 芯片。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





