[發(fā)明專利]非易失存儲器件及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910169088.9 | 申請日: | 2009-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN101677089A | 公開(公告)日: | 2010-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 盧載潤;李熙烈 | 申請(專利權(quán))人: | 海力士半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/8247 | 分類號: | H01L21/8247;H01L21/768;H01L21/265;H01L27/115;H01L23/528 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 顧晉偉;王春偉 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 非易失 存儲 器件 及其 制造 方法 | ||
相關(guān)申請
本申請要求分別于2008年9月19日提交、2008年12月24日提交和 2009年5月25日提交的韓國專利申請10-2008-0091987、10-2008-0133107 和10-2009-0045402的優(yōu)先權(quán),通過引用將各公開的全部內(nèi)容并入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開內(nèi)容的實施方案通常涉及非易失性存儲器件及其制造方法,并 且更特別地涉及非易失性存儲器件的結(jié)區(qū)。
背景技術(shù)
在非易失性存儲器件中,用于存儲數(shù)據(jù)的存儲單元在相同的串內(nèi)部相 互串聯(lián)連接。存儲單元通過相同的串內(nèi)部的結(jié)區(qū)進(jìn)行電互連。
圖1是已知非易失性存儲器件的截面圖。
通過在其中形成有阱和結(jié)區(qū)10a和10b的半導(dǎo)體襯底10上形成大量柵 極線可形成圖1的非易失性存儲器件。例如,柵極線根據(jù)功能或結(jié)構(gòu)可分 為不同類型。在圖1中,顯示字線WL0~WL2和源極選擇線SSL作為實 例。
每個字線WL和源極選擇線SSL均可具有包括柵極絕緣層12、浮置 柵極14、介電層16、控制柵極18和硬掩模圖案20的堆疊結(jié)構(gòu)。此處,源 極選擇線SSL用于傳輸驅(qū)動電壓。因此,介電層接觸孔(ONC)在介電層 16中形成,由此將浮置柵極14和控制柵極18電連接。字線WL連接到存 儲單元的控制柵極,源極選擇線SSL連接到源極選擇晶體管的控制柵極。 為描述的方便,在字線WL0~WL2之間形成的結(jié)區(qū)稱為第一結(jié)區(qū)10a, 在源極選擇線SSL和第一字線WL0之間形成的結(jié)區(qū)稱為第二結(jié)區(qū)10b。
源極選擇線SSL使用的電壓高于在第一到第三字線WL0~WL2中使 用的電壓。因此,源極選擇線SSL和相鄰第一字線WL0之間的距離寬于 字線WL0~WL2之間的距離。然而,由于非易失存儲器件的集成度,所 以在增加源極選擇線SSL和相鄰第一字線WL0之間的距離上存在限制。 因此,字線WL0~WL2的第一字線WL0的電性能比其它的字線更容易劣 化。
例如,電子可隨著編程操作和擦除操作的重復(fù)而在柵極絕緣層(或隧 道絕緣層)中被俘獲。俘獲電子可引起存儲單元閾值電壓的升高。此外, 在柵極絕緣層(或隧道絕緣層)中具有較大量的俘獲電子的存儲單元比在 柵極絕緣層(或隧道絕緣層)中具有較小量的俘獲電子的存儲單元具有更 高的編程操作。因此,相應(yīng)非易失性存儲器件的閾值電壓的分布寬度可增 加。特別地,在第一字線WL0中,因為第一字線WL0和源極選擇線SSL 之間的距離寬,所以第二結(jié)區(qū)10b的長度長。因此,第二結(jié)區(qū)10b比字線 WL0~WL2之間的每個第一結(jié)區(qū)10a都具有更高的電容,這可改變閾電 壓的分布。這種電容差異對擦除操作有影響,以下將參考圖2進(jìn)行描述。
圖2是顯示已知非易失性存儲器件的勢能變化圖。
圖2的圖顯示當(dāng)實施非易失性存儲器件的擦除操作時,每個阱和結(jié)區(qū) 的勢能電壓的差異。將其中形成有P-阱的非易失性存儲器件的擦除操作作 為一個實例描述。在擦除期間,對P-阱施加擦除電壓(例如20V)。此處, 不但P-阱而且在源極選擇線SSL和第一字線WL0之間形成的第二結(jié)區(qū) 10b的勢能均增加,在字線WL0~WL2之間形成的第一結(jié)區(qū)10a的勢能 增加。在擦除期間之后的放電期間,對P-阱施加的擦除電壓的水平減小。 此處,在擦除期間和放電期間之間產(chǎn)生其中勢能變化的部分A。因為擦除 電壓或者放電電壓直接施加于P-阱,所以該變化的寬度窄。字線之間結(jié)區(qū) 中的變化的寬度稍微寬于在P-阱中的變化。
同時,源極選擇線SSL和第一字線WL0之間的第二結(jié)區(qū)10b的變化 的寬度比字線之間的結(jié)區(qū)的變化的寬度更寬,這是因為其受到第一字線 WL0的柵極絕緣層12中俘獲的電子的直接影響。如果第二結(jié)區(qū)10b的反 應(yīng)速度比其它的結(jié)區(qū)慢,那么因為可能產(chǎn)生漏電流,所以可產(chǎn)生許多電子。 特別地,如果P-阱在第二結(jié)區(qū)10b之前放電并因此變?yōu)?V,那么第一字 線WL0的擦除的浮置柵極14變?yōu)檎妱轄顟B(tài)。此處,由于第二結(jié)區(qū)10b 中產(chǎn)生的電子可進(jìn)入第一字線WL0的浮置柵極14,所以非易失性存儲器 件的循環(huán)特征可劣化。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于海力士半導(dǎo)體有限公司,未經(jīng)海力士半導(dǎo)體有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910169088.9/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 將數(shù)據(jù)存儲在非易失性高速緩沖存儲器中的設(shè)備和方法
- 抑制寄生電荷積累的非易失性存儲器件及其操作方法
- 非易失性存儲裝置、非易失性存儲系統(tǒng)及存取裝置
- 非易失性存儲門及其動作方法、及非易失性存儲門裝入型邏輯電路及其動作方法
- 從非易失性塊存儲設(shè)備至處理設(shè)備的健康報告
- 非易失性數(shù)據(jù)備份和恢復(fù)方法
- 非易失內(nèi)存的管理方法和相關(guān)裝置
- 基于通信終端的非易失參數(shù)的恢復(fù)和/或更新方法及系統(tǒng)
- 基于一對多頁面映射的非易失內(nèi)存數(shù)據(jù)一致性更新方法
- 一種非易失性數(shù)據(jù)的讀寫方法及裝置





