[發明專利]充電裝置和圖像形成設備

有效

• 申請號: 200910169073.2
• 申請日: 2009-09-17
• 公開（公告）號: CN101846921A
• 公開（公告）日: 2010-09-29
• 發明（設計）人: 萩原拓郎
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: G03G15/02
• 分類號: G03G15/02;G03G15/00;G03G15/01
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 陳源;張天舒

技術領域

本發明涉及一種充電裝置和一種圖像形成設備。

背景技術

在圖像形成設備中，下列專利文獻1-4所披露的技術是公知的，它們涉及一種用于給將要充電的主體(例如感光器)進行充電的充電構件。

JP-A-2004-333789公開了如下技術。在其中將AC電壓疊加到DC電壓上的充電電壓被施加到其上的充電輥2中，在非圖像形成周期在增加AC電流的同時測量流入感光器1的DC電流。同時確定在DC電流停止增加(飽和)的時間點處的AC電流值Iac(sat)。通過由布置在圖像形成設備附近的溫度/濕度傳感器檢測的溫度和濕度計算絕對濕度。與計算的絕對濕度對應的比率A＝Iac(img)/Iac(sat)是通過絕對濕度和比率A之間的預置關系確定的。最后，通過將比率A和AC電流值Iac(sat)相乘來確定將要施加的AC電流Iac(img)。

JP-A-2004-062062公開了這樣一種技術：即在其中將在DC電壓上疊加恒壓控制的AC電壓的充電電壓施加給充電構件2的結構中，根據測量的絕對濕度來設置將要施加給充電構件2的AC電壓的峰峰電壓Vpp。JP-A-2004-062062還披露了這樣一種技術：考慮到在特殊的環境(即，高溫、低濕度環境)中AC偏壓趨于超限這樣的事實，絕對濕度相關性(dependenc?e)在高溫、低濕度環境中被進一步校正。另外，JP-A-2004-062062披露了這樣的技術：還是對于恒流控制的AC電壓，在絕對濕度相關性的基礎上設置一個電流值或者對絕對濕度相關性進一步校正以適應特殊的環境。

JP-A-2006-267739公開了下列技術。在將其中AC電壓Vac被疊加在DC電壓Vdc上的充電電壓施加給充電輥14的結構中，AC電壓Vac的幅度的峰峰電壓Vpp被增加，而DC電壓Vdc固定。同時檢測飽和電壓Vpp，其是在流過充電輥14的DC電流Idc已經會聚成一個飽和電流Idc的狀態下的峰峰電壓Vpp。將要加到飽和電壓Vpp上的裕量R是根據飽和電流Iac設置的，而將要施加給充電輥14的應用AC電壓Vmin是根據等式Vmin＝Vpp(1+R/100)確定的。也就是，根據與溫度和濕度無關的檢測的飽和電流Iac來設置預定裕量R，并通過裕量R和飽和電壓Vpp來設置應用AC電壓Vmin(AC電壓Vac)。

JP-A-2007-193107公開了如下技術。在其中將AC電壓疊加在DC電壓上的電壓作為充電偏壓施加給充電輥2的輥基礎構件2a的結構中，判斷由在主體100內部提供的溫度/濕度傳感器61檢測的溫度落在低、中和高溫度范圍中的哪一個中，以及由溫度/濕度傳感器61檢測的濕度落在低、中和高濕度范圍中的哪一個中。如果由此確定的溫度范圍和濕度范圍的最終組合是低溫/低濕、低溫/中濕或中溫/低濕，則為了通過增加在充電輥2和感光器鼓1之間作用的靜電力來減小充電輥2開始旋轉時的滑動，在開始打印操作之后將比普通應用電壓高的高充電偏壓施加一個預定的時間。

[專利文獻1]JP-A-2004-333789(0017、0019、0046和0053-0055段，和圖3-7)

[專利文獻2]JP-A-2004-062062(0012、0013、0042-0045、0050-0052、0056-0058和0060-0062段，和圖3、5-7和9)

[專利文獻3]JP-A-2006-267739(0011、0013、0043-0048和0054-0057段，和圖2-6)

[專利文獻4]JP-A-2007-193107(0010-0013、0021-0024、0030、0031、0058-0061、0066-0068、0085、0086和0089-0091段，和圖4、5、9和10)

發明內容

本發明的技術目的是降低通過充電構件給將要充電的主體進行充電中發生故障的可能性。

為了實現上述目的，提供如下發明。

(1)一種充電裝置，包括：

被布置為與要被充電的主體相對的充電構件，所述充電構件包括：

導體軸；

覆蓋所述導體軸的外圓周表面的充電構件主體；和

覆蓋充電構件主體的表面并且包含散布的精細粒子的表面層，所述表面層的表面由于散布的精細粒子而凹凸不平；

對充電構件施加充電電壓的充電電源，所述充電電壓是通過在一個預設的DC電壓上疊加恒流控制的AC電壓產生的；