[發明專利]無掩膜光刻系統及圖案化多個基材的方法

有效

• 申請號: 200910168480.1
• 申請日: 2009-08-26
• 公開（公告）號: CN101846885A
• 公開（公告）日: 2010-09-29
• 發明（設計）人: 陳政宏;林世杰;林本堅
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 陳紅

1.一種無掩膜光刻設備，其特征在于，包括：

多個寫入腔室，每一寫入腔室包括：

一基材座，可固持一待寫入基材；

一多波束模塊，可提供多道輻射束，每一道輻射束被引導以對該基材的一部分進行寫入；以及

一載入載出接口腔室，可提供該基材至該基材座；

一接口，可傳輸該基材至每一對應的寫入腔室的該基材座；

一數據路徑，可提供一組電路圖案數據至每一該些寫入腔室的該多波束模塊；以及

一頻率模塊，可提供一頻率信號至每一該些寫入腔室的該多波束模塊以使其同步。

2.根據權利要求1所述的無掩膜光刻設備，其特征在于，每一道輻射束包括以下之一：電子束、紫外線光束以及離子束。

3.根據權利要求1所述的無掩膜光刻設備，其特征在于，該載入載出接口還包括二個額外的基材座以及二個基材傳送機械手臂。

4.根據權利要求1所述的無掩膜光刻設備，其特征在于，該接口還連接到一阻劑涂布顯影機，以處理該基材的一影像層。

5.根據權利要求1所述的無掩膜光刻設備，其特征在于，該頻率模塊包括一頻率線以提供該頻率信號，使下載數據、寫入輻射束以及定位基材座能同步。

6.根據權利要求1所述的無掩膜光刻設備，其特征在于，還包括一緩沖數據庫，用以在一寫入處理期間，由該數據路徑接收該組電路圖案數據，并將該組電路圖案數據提供給該些輻射束中的每一道輻射束。

7.根據權利要求1所述的無掩膜光刻設備，其特征在于，還包括多個波束數據庫，每一波束數據庫與該多道輻射束其一耦接，且可在一寫入處理期間，接收該組電路圖案數據并提供該組電路圖案數據給該多道輻射束中各自對應的一道輻射束。

8.一種無掩膜光刻設備，其特征在于，包括：

多個寫入腔室，每一寫入腔室包括：

一晶圓座，可固持一待寫入的晶圓；以及

一多波束模塊，可提供多道輻射束以對該晶圓進行寫入；

一接口，可在每一該些寫入腔室與一阻劑涂布顯影機之間傳輸該晶圓，以處理該晶圓的一影像層；以及

一數據路徑，可提供一組電路圖案數據到位于至少二該些寫入腔室中的該多道輻射束的每一道輻射束。

9.根據權利要求8所述的無掩膜光刻設備，其特征在于，還包括另一數據路徑，其可提供另一組電路圖案數據給至少一其它該些寫入腔室中的每一道輻射束。

10.根據權利要求8所述的無掩膜光刻設備，其特征在于，該數據路徑可提供該組電路圖案數據給所有該些寫入腔室中的每一道輻射束。

11.根據權利要求8所述的無掩膜光刻設備，其特征在于，每一該些寫入腔室還包括有一載入載出接口腔室，以在該接口與該對應的寫入腔室的該晶圓座之間傳送該晶圓。

12.一種圖案化多個基材的方法，其特征在于，包括：

形成一影像層于每一該些基材上，且該影像層是對一輻射能敏感；

傳送該基材至一無掩膜光刻設備，該無掩膜光刻設備包括：

多個寫入腔室，每一寫入腔室具有一多波束模塊，用以提供該輻射能的多道輻射束，每一道輻射束被引導以對該基材的一部分進行寫入；以及

一數據路徑，用以提供一電路圖案數據給每一該些寫入腔室中的該多波束模塊；

經由該數據路徑提供該組電路圖案數據給每一該些寫入腔室的該多波束模塊；以及

根據該組電路圖案數據，通過對應的該多波束模塊同時對每一該些基材進行寫入。

13.根據權利要求12所述的圖案化多個晶圓的方法，其特征在于，該輻射能包括一能量束，且該能量束是選自由電子束、離子束以及紫外線光束所組成的群組中。

14.根據權利要求12所述的圖案化多個晶圓的方法，其特征在于，該同時進行寫入的步驟包括：使用一頻率信號，使該些多個寫入腔室的寫入同步化。

15.根據權利要求12所述的圖案化多個晶圓的方法，其特征在于，該同時進行寫入的步驟包括：根據該組電路圖案數據，通過該多道輻射束，對每一該些基材上該影像層的不同場區進行寫入。