[發明專利]共軛二烯系聚合物、共軛二烯系聚合物組合物及其制造方法

無效

• 申請號: 200910168301.4
• 申請日: 2009-08-27
• 公開（公告）號: CN101659731A
• 公開（公告）日: 2010-03-03
• 發明（設計）人: 大島真弓
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: C08F236/04
• 分類號: C08F236/04;C08F8/42;C08L47/00;C08F236/10
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 朱 丹

1.一種共軛二烯系聚合物，其特征在于，

具有基于共軛二烯的結構單元和下式(I)所示的結構單元，并且，

該共軛二烯系聚合物是利用具有下式(II)所示的鍵及/或下式(III)所示的鍵的硅化合物來改性聚合物的至少一端而形成的，

式(I)中，X¹、X²及X³分別獨立地表示下式(Ia)所示的基、羥基、烴基或取代烴基，X¹、X²及X³中的至少1個為下式(Ia)所示的基或羥基，

式(Ia)中，R¹及R²分別獨立地表示碳原子數為1～6的烴基、碳原子數為1～6的取代烴基、甲硅烷基或取代甲硅烷基，R¹及R²也可以鍵合而與氮原子一起形成環結構，

2.根據權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其特征在于，

式(Ia)的R¹及R²為碳原子數1～6的烴基。

3.根據權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其特征在于，

式(I)的X¹、X²及X³中的2個為式(Ia)所示的基或羥基。

4.根據權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其特征在于，

硅化合物具有下式(IV)所示的基，

式(IV)中，R³、R⁴及R⁵分別獨立地表示碳原子數為1～4的烴基或碳原子數為1～4的烴氧基，R³、R⁴及R⁵中的至少1個為烴氧基。

5.根據權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其特征在于，

硅化合物具有下式(IIa)所示的鍵，

式(IIa)中，m表示1～10的整數，R⁶、R⁷及R⁸分別獨立地表示碳原子數為1～4的烴基或碳原子數為1～4的烴氧基，R⁶、R⁷及R⁸中的至少1個為烴氧基。

6.根據權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其特征在于，

硅化合物由下式(IIb)或式(IIc)表示，

式(IIb)中，n表示1～10的整數，R¹¹、R¹²及R¹³分別獨立地表示碳原子數為1～4的烴基或碳原子數為1～4的烴氧基，R¹¹、R¹²及R¹³中的至少1個為烴氧基，R¹⁴及R¹⁵分別獨立地表示碳原子數為1～10的烴基、碳原子數為1～10的取代烴基、碳原子數為1～10的烴氧基或碳原子數為1～10的取代烴氧基，R¹⁴及R¹⁵也可以鍵合，

式(IIc)中，p、q及r分別獨立地表示1～10的整數，R²¹～R²⁹分別獨立地表示碳原子數為1～4的烴基或碳原子數為1～4的烴氧基，R²¹、R²²及R²³中的至少1個為烴氧基，R²⁴、R²⁵及R²⁶中的至少1個為烴氧基，R²⁷、R²⁸及R²⁹中的至少1個為烴氧基。