[發(fā)明專利]含有鹵素含氧酸、其鹽及其衍生物的微電子清洗組合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910166654.0
• 申請日: 2004-11-05
• 公開（公告）號: CN101833251A
• 公開（公告）日: 2010-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許建斌
• 申請（專利權(quán)）人: 馬林克羅特貝克公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42;C11D7/50;C11D7/54;C11D7/32
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 曹立莉

1.用于從微電子基板上清洗光致抗蝕劑或殘余物的方法，該方法包括將基板與清洗組合物接觸足夠的時(shí)間以從基板上清洗光致抗蝕劑或殘余物，其中所述清洗組合物包含：

(a)0.001至30％重量的氧化劑，其選自烷基亞氯酸鹽、烷基次氯酸鹽、亞氯酸四烷基銨、次氯酸四烷基銨、取代的亞氯酸三烷基銨和取代的次氯酸三烷基銨，其中所述氧化劑提供0.001至30％的可用鹵素，和

(b)組分(a)的溶劑，

和，任選的如下組分中的一種或多種：

(c)不產(chǎn)生銨的堿，

(d)最多30％重量的酸，

(e)金屬螯合劑或絡(luò)合劑，

(f)增強(qiáng)清洗性能的添加劑，

(g)金屬腐蝕抑制劑，

(h)不產(chǎn)生銨的氟化物，和

(i)表面活性劑；

條件為當(dāng)氧化劑組分(a)是烷基次氯酸鹽時(shí)，組分(b)溶劑不是酰胺、砜、環(huán)丁烯砜、硒砜或飽和的醇溶劑。

2.用于從微電子基板上清洗光致抗蝕劑或殘余物的組合物，所述清洗組合物包含：

(a)0.001至30％重量的氧化劑，其選自烷基亞氯酸鹽、烷基次氯酸鹽、亞氯酸四烷基銨、次氯酸四烷基銨、取代的亞氯酸三烷基銨和取代的次氯酸三烷基銨，其中所述氧化劑提供0.001至30％的可用鹵素，和

(b)組分(a)的溶劑，

和，任選的如下組分中的一種或多種：

(c)不產(chǎn)生銨的堿，

(d)最多30％重量的酸，

(e)金屬螯合劑或絡(luò)合劑，

(f)增強(qiáng)清洗性能的添加劑，

(g)金屬腐蝕抑制劑，

(h)不產(chǎn)生銨的氟化物，和

(i)表面活性劑；

條件為當(dāng)氧化劑組分(a)是烷基次氯酸鹽時(shí)，組分(b)溶劑不是酰胺、砜、環(huán)丁烯砜、硒砜或飽和的醇溶劑。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的方法或權(quán)利要求2的組合物，其中所述氧化劑組分(a)包括次氯酸四烷基銨。

4.根據(jù)權(quán)利要求3的方法或組合物，其中所述溶劑是水。

5.根據(jù)權(quán)利要求4的方法或組合物，還包含組分(i)表面活性劑。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的方法或組合物，其中所述次氯酸四烷基銨是次氯酸四甲銨。

7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法或權(quán)利要求2的組合物，其中所述氧化劑選自次氯酸四丁基銨和亞氯酸四丁基銨。

8.根據(jù)權(quán)利要求1的方法或權(quán)利要求2的組合物，其中組分(b)溶劑選自環(huán)丁砜，且氧化劑組分為次氯酸四烷基銨。