[發明專利]一種用于制備小分子水的復合材料及其制備方法

有效

• 申請號: 200910166547.8
• 申請日: 2009-08-20
• 公開（公告）號: CN101624220A
• 公開（公告）日: 2010-01-13
• 發明（設計）人: 郭金剛;王靖濤
• 申請（專利權）人: 郭金剛
• 主分類號: C02F1/00
• 分類號: C02F1/00
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司
• 代理人: 陳小蓮;王鳳桐

1.一種用于制備小分子水的復合材料，其特征在于，該復合材料含有物質A和物質B，所述物質A為電氣石、和CeO₂-Fe₂O₃復合氧化物中的一種或幾種，所述物質B為焦磷鉬酸鹽、焦磷錫酸鹽、焦磷鐵酸鹽、高鐵酸鹽中的一種或幾種。

2.根據權利要求1所述的復合材料，其中，所述物質A和物質B的重量比為20-1∶1。

3.根據權利要求1或2所述的復合材料，其中，所述物質A和物質B形成為層狀結構，從上到下分別為表層、中層和內層，所述表層含有物質A，且物質A的含量大于表層總重量的50％，所述中層含有物質B，且所述物質B的含量大于中層總重量的50％，所述內層含有物質A，且物質A的含量大于內層總重量的50％。

4.根據權利要求3所述的復合材料，其中，該復合材料還包括多孔支撐體，所述層狀結構的內層附著在該多孔支撐體表面，所述多孔支撐體的平均孔直徑為0.1-10微米，厚度為1-50毫米。

5.根據權利要求4所述的復合材料，其中，所述表層、中層和內層的厚度比為0.1-2∶0.01-2∶1，且所述表層、中層和內層的總厚度為0.5-30毫米。

6.根據權利要求4或5所述的復合材料，其中，表層中所含的物質A為納米級粒子，內層中所含的物質A為微米級粒子。

7.根據權利要求1所述的復合材料，其中，所述物質A為酸度系數在20-60之間的電氣石，所述物質B為平均粒子直徑為100-300目的焦磷鉬酸錫。

8.權利要求1所述復合材料的制備方法，該方法包括將含有物質A的第一漿液和含有物質B的第二漿液依次附著到基材上，形成含有物質A的第一層和含有物質B的第二層，然后升溫至100-600℃下焙燒4-10小時，升溫至100-600℃的時間為10-50小時。

9.根據權利要求8所述的制備方法，其中，該方法還包括在焙燒之前，將含有物質A的第三漿液附著在含有物質B的第二層上，然后干燥，得到含有物質A的第三層。