[發明專利]記錄裝置

有效

• 申請號: 200910165271.1
• 申請日: 2009-08-17
• 公開（公告）號: CN101825789A
• 公開（公告）日: 2010-09-08
• 發明（設計）人: 浦野千里;森川尚;原田陽雄;岡野泰典;鳫大樹;平野敦資;有沢宏
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: G02F1/133
• 分類號: G02F1/133;G02F1/135
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝

1.一種記錄裝置，該記錄裝置包括：

獲取單元，該獲取單元獲取代表圖像的圖像信息；以及

電壓施加單元，該電壓施加單元向裝配有顯示介質的一對電極施加電壓，所述電壓具有根據所述獲取單元獲取的圖像信息的頻率，所述顯示介質具有設置在所述一對電極之間的多層液晶相，所述多層液晶相具有第一層和第二層，所述第一層能夠在施加的電壓大于或等于預設的第一電壓閾值時呈現特定取向，所述第二層能夠在施加的電壓大于或等于第二電壓閾值時呈現特定取向，其中：

向所述一對電極施加電壓造成第一電壓分量和第二電壓分量分別施加到所述第一層和所述第二層；

當施加到所述一對電極的電壓是第一頻率并且是預設電壓值時，所述第一電壓分量大于或等于所述第一電壓閾值，并且所述第二電壓分量小于所述第二電壓閾值；并且

當施加到所述一對電極的電壓是低于所述第一頻率的第二頻率并且是預設電壓值時，所述第一電壓分量小于所述第一電壓閾值，并且所述第二電壓分量大于或等于所述第二電壓閾值。

2.根據權利要求1所述的記錄裝置，

其中，所述第一層的阻抗在所述第一頻率下大于所述第二層的阻抗，在所述第二頻率下小于所述第二層的阻抗。

3.根據權利要求1所述的記錄裝置，該記錄裝置還包括：

光照射單元，當所述電壓施加單元施加電壓時，所述光照射單元基于所述獲取單元獲取的圖像信息，用光照射所述顯示介質，

其中，所述顯示介質還具有設置在所述一對電極之間的光敏層，所述光敏層設置在所述多層液晶相上，并且，當被光照射時，所述光敏層的電阻值下降；

向所述一對電極施加電壓造成所述第一電壓分量、所述第二電壓分量和第三電壓分量分別施加到所述第一層、所述第二層和所述光敏層；

當施加到所述一對電極的電壓是第一頻率并且是預設電壓值時，所述第一電壓分量小于所述第一電壓閾值，所述第二電壓分量小于所述第二電壓閾值，并且，當用光照射所述光敏層時，所述第一電壓分量大于或等于所述第一電壓閾值，所述第二電壓分量小于所述第二電壓閾值；并且，

當施加到所述一對電極的電壓是第二頻率并且是預設電壓值時，所述第一電壓分量小于所述第一電壓閾值，所述第二電壓分量小于所述第二電壓閾值，并且，當用光照射所述光敏層時，所述第一電壓分量小于所述第一電壓閾值，所述第二電壓分量大于或等于所述第二電壓閾值。

4.根據權利要求1所述的記錄裝置，

其中，所述第一層和所述第二層在處于與所述特定取向不同的取向時，反射互不相同的波長分布的光。

5.根據權利要求1所述的記錄裝置，

其中，當所述第一層和所述第二層處于與所述特定取向不同的取向時，所述電壓施加單元施加頻率大于或等于所述第一頻率的電壓。