[發明專利]液體噴射設備及控制該設備的方法

有效

• 申請號: 200910165027.5
• 申請日: 2009-07-28
• 公開（公告）號: CN101659148A
• 公開（公告）日: 2010-03-03
• 發明（設計）人: 廣田淳
• 申請（專利權）人: 兄弟工業株式會社
• 主分類號: B41J2/01
• 分類號: B41J2/01;B41J2/045;B41J2/165;B41J2/21
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 車 文;張建濤

1.一種控制液體噴射設備的方法，所述液體噴射設備包括：

(a)液體噴射頭，所述液體噴射頭具有液體供應部分、液體噴射部分、液體排出部分和內部通道，液體從外部液體源通過所述液體供應部分供應到所述液體噴射頭，通過所述液體供應部分供應的液體通過所述液體噴射部分從所述液體噴射頭噴射，通過所述液體供應部分供應的液體通過所述液體排出部分從所述液體噴射頭排出，所述內部通道包括從所述液體供應部分通過中間部分延伸到所述液體噴射部分的通道和從所述中間部分延伸到所述液體排出部分的通道；和

(b)加壓部分，所述加壓部分構造成對所述液體供應部分施加壓力P₁和/或對所述液體排出部分施加壓力P₂，其特征在于：

控制所述加壓部分以在維護操作期間基于下式(1)和(2)控制所述壓力P₁和P₂中的至少一個，在所述維護操作中，通過所述液體供應部分供應的液體從所述液體排出部分排出，而沒有液體流過所述液體噴射部分，

式(1)：-P₀’(R₁+R₂)＜P₁R₂+P₂R₁＜P₀(R₁+R₂)

式(2)：P₁-P₂＞Q₀(R₁+R₂)

其中

P₀：耐受在從液體側朝向大氣側的方向上作用到所述液體噴射部分的彎月面上的壓力的彎月面耐受壓力；

P₀’：耐受在從大氣側朝向液體側的方向上作用到所述液體噴射部分的彎月面上的壓力的彎月面耐受壓力；

P₁：在維護操作期間所述液體供應部分處的壓力；

P₂：在維護操作期間所述液體排出部分處的壓力；

R₁：在從所述液體供應部分到所述內部通道的所述中間部分的通道中的液體流阻；

R₂：在從所述內部通道的所述中間部分到所述液體排出部分的通道中的液體流阻；和

Q₀：通過所述液體供應部分供應且通過所述液體排出部分排出的液體的最小量，所述最小量是在所述維護操作期間把存在于從所述液體供應部分經過所述中間部分到所述液體排出部分的通道中的異物排出所需的量。