[發(fā)明專利]一種動(dòng)畫播放的方法和裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910162732.X
• 申請(qǐng)日: 2009-08-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101615298A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-12-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃朝興
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 騰訊科技（深圳）有限公司
• 主分類號(hào): G06T13/00
• 分類號(hào): G06T13/00
• 代理公司: 北京鑫媛睿博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 龔家驊

1.一種動(dòng)畫播放的方法，其特征在于，包括：

切割動(dòng)畫序列中的原始幀畫面，確定切割后的幀畫面位置相對(duì)于切割前的原始幀畫面位置的偏移量，存儲(chǔ)切割后的幀畫面和確定出的偏移量；

在播放動(dòng)畫序列時(shí)，獲取動(dòng)畫序列中切割后的待播放幀畫面以及對(duì)應(yīng)的初始坐標(biāo)，獲取切割后的待播放幀畫面的位置與該待播放幀畫面的原始幀畫面位置的偏移量，根據(jù)獲取到的偏移量對(duì)所述初始坐標(biāo)進(jìn)行修正，得到該切割后的待播放幀畫面的實(shí)際坐標(biāo)，并在所述實(shí)際坐標(biāo)顯示切割后的待播放幀畫面。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述切割動(dòng)畫序列中的原始幀畫面，包括：

識(shí)別動(dòng)畫序列中的原始幀畫面的非透明像素的位置；

根據(jù)所述非透明像素的位置的識(shí)別結(jié)果獲取所述原始幀畫面的空白區(qū)域和非空白區(qū)域，所述非空白區(qū)域?yàn)橐?guī)則形狀或非規(guī)則形狀；

切斷掉所述原始幀畫面中的空白區(qū)域，得到切割后的幀畫面。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述確定切割后的幀畫面位置相對(duì)于切割前的原始幀畫面位置的偏移量，包括：

確定切割后的幀畫面位置相對(duì)于切割前的原始幀畫面位置的橫坐標(biāo)偏移量和縱坐標(biāo)偏移量；其中，所述橫坐標(biāo)偏移量為所述原始幀畫面的左側(cè)空白區(qū)域的寬度；所述縱坐標(biāo)偏移量為所述原始幀畫面的上側(cè)空白區(qū)域的高度。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)獲取到的所述偏移量對(duì)所述初始坐標(biāo)進(jìn)行修正，具體為：

對(duì)所述初始坐標(biāo)和獲取到的偏移量求和。

5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述動(dòng)畫序列中的各原始幀畫面為尺寸相等的幀畫面。

6.一種動(dòng)畫播放的裝置，其特征在于，包括：

切割模塊，用于切割動(dòng)畫序列中的原始幀畫面并存儲(chǔ)；

第二獲取模塊，用于確定所述切割模塊切割后的幀畫面位置相對(duì)于切割前的原始幀畫面位置的偏移量；

存儲(chǔ)模塊，用于存儲(chǔ)所述第二獲取模塊確定出的所述偏移量；

第一獲取模塊，用于獲取動(dòng)畫序列中切割后的待播放幀的幀畫面以及對(duì)應(yīng)的初始坐標(biāo)，以及切割后的待播放幀畫面的位置與該待播放幀的原始幀畫面位置的偏移量；

修正模塊，用于根據(jù)所述第一獲取模塊獲取的所述偏移量對(duì)所述初始坐標(biāo)進(jìn)行修正，得到該切割后的待播放幀畫面的實(shí)際坐標(biāo)；

顯示模塊，用于在所述修正模塊得到的所述實(shí)際坐標(biāo)顯示所述切割后的待播放幀畫面。

7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述切割模塊包括：

識(shí)別子模塊，用于識(shí)別所述原始幀畫面的非透明像素的位置；

獲取子模塊，用于根據(jù)所述識(shí)別子模塊識(shí)別的所述非透明像素的位置的識(shí)別結(jié)果獲取所述原始幀畫面的空白區(qū)域和非空白區(qū)域，所述非空白區(qū)域?yàn)橐?guī)則形狀或非規(guī)則形狀；

存儲(chǔ)子模塊，用于存儲(chǔ)所述非空白區(qū)域。

8.如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述第二獲取模塊具體用于，確定切割后的幀畫面位置相對(duì)于切割前的原始幀畫面位置的橫坐標(biāo)偏移量和縱坐標(biāo)偏移量；其中，所述橫坐標(biāo)偏移量為所述原始幀畫面的左側(cè)空白區(qū)域的寬度；所述縱坐標(biāo)偏移量為所述原始幀畫面的上側(cè)空白區(qū)域的高度。