[發明專利]放電加工液及放電加工方法

有效

• 申請號: 200910161629.3
• 申請日: 2009-07-20
• 公開（公告）號: CN101954517A
• 公開（公告）日: 2011-01-26
• 發明（設計）人: 麥朝創;黃淑娟
• 申請（專利權）人: 財團法人工業技術研究院
• 主分類號: B23H1/08
• 分類號: B23H1/08;B23H1/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種放電加工液，包含：

一絕緣液；以及

多個納米碳管，該多個納米碳管懸浮于該絕緣液中。

2.根據權利要求1所述的放電加工液，其中還包括有一分散劑，被添加于該絕緣液中，用以分散該多個納米碳管。

3.根據權利要求1所述的放電加工液，其中該多個納米碳管的一表面還具有至少一官能基。

4.根據權利要求3所述的放電加工液，其中該官能基為羧基、氫氧基、內酯基、酸酐基、羰基、醚基、及其組合的其中之一。

5.根據權利要求1所述的放電加工液，其中該絕緣液為一水基絕緣液或是一油基絕緣液。

6.根據權利要求1所述的放電加工液，其中該多個納米碳管的濃度范圍介于0.1公克/公升至20公克/公升之間。

7.根據權利要求6所述的放電加工液，其中該多個納米碳管的濃度為0.2公克/公升。

8.根據權利要求1所述的放電加工液，其中該多個納米碳管的平均直徑介于1納米至100納米之間。

9.根據權利要求8所述的放電加工液，其中該多個納米碳管的平均直徑介于40納米至60納米之間。

10.根據權利要求1所述的放電加工液，其中該多個納米碳管的平均長度介于0.1微米至20微米之間。

11.根據權利要求10所述的放電加工液，其中該多個納米碳管的平均長度介于1微米至5微米之間。

12.一種放電加工方法，包含下列步驟：

提供一放電加工裝置，該放電加工裝置具有一電極及一工作槽，一工件被置放于該工作槽中，并與該電極之間形成一放電間隙，且該電極與該工件呈電性連接關系；

裝填一放電加工液至該工作槽內，該放電加工液具有一絕緣液及懸浮于該絕緣液中的多個納米碳管，且該多個納米碳管漂浮于該放電間隙中；以及

致動該放電加工裝置并產生一放電脈沖波，以于該放電間隙中引發一電弧柱，且該電弧柱通過該多個納米碳管而對該工件進行加工。

13.根據權利要求12所述的放電加工方法，其中裝填該放電加工液至該工作槽內的步驟，還包括有將該多個納米碳管混合于一儲備液中，再將該儲備液添加于該絕緣液中的步驟。

14.根據權利要求12所述的放電加工方法，其中裝填該放電加工液至該工作槽內的步驟，還包括有添加一分散劑于該絕緣液中的步驟。

15.根據權利要求12所述的放電加工方法，其中于裝填該放電加工液至該工作槽內的步驟前，還包括有對該多個納米碳管進行一表面改質處理的步驟。

16.根據權利要求15所述的放電加工方法，其中對該多個納米碳管進行該表面改質處理的步驟，是以氧化方式或是酸化方式對該多個納米碳管進行該表面改質處理，以令該多個納米碳管的一表面接上至少一官能基。

17.根據權利要求16所述的放電加工方法，其中該官能基為羧基、氫氧基、內酯基、酸酐基、羰基、醚基、及其組合的其中之一。

18.根據權利要求12所述的放電加工方法，其中該絕緣液為一水基絕緣液或是一油基絕緣液。

19.根據權利要求12所述的放電加工方法，其中該多個納米碳管的添加濃度范圍介于0.1公克/公升至20公克/公升之間。

20.根據權利要求19所述的放電加工方法，其中該多個納米碳管的添加濃度為0.2公克/公升。

21.根據權利要求12所述的放電加工方法，其中該多個納米碳管的平均直徑介于1納米至100納米之間。

22.根據權利要求21所述的放電加工方法，其中該多個納米碳管的平均直徑介于40納米至60納米之間。

23.根據權利要求12所述的放電加工方法，其中該多個納米碳管的平均長度介于0.1微米至20微米之間。

24.根據權利要求23所述的放電加工方法，其中該多個納米碳管的平均長度介于1微米至5微米之間。