[發(fā)明專利]光學片及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910160851.1
• 申請日: 2009-07-29
• 公開（公告）號: CN101639201A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發(fā)明（設計）人: 李大煥;金雨泰;李敬秀;金錫;黃材善;安光俊;鄭鎮(zhèn)溶;卞達錫
• 申請（專利權）人: 李大煥;納米視覺有限公司
• 主分類號: F21V13/00
• 分類號: F21V13/00;F21V5/00;F21V5/02;F21V5/08;F21V8/00;G02F1/13357
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權代理有限責任公司
• 代理人: 余 朦;王艷春

優(yōu)先權聲明

根據(jù)35?USC§119，本申請要求于2008年7月29日向韓國知識 產(chǎn)權局(KIPO)提交的第2008-74226號和第2008-74235號韓國專利 申請、以及于2008年10月17日向韓國知識產(chǎn)權局提交的第 2008-101952號韓國專利申請的優(yōu)先權，其內容通過引用而全部并入本 文。

背景技術

1.發(fā)明的領域

本發(fā)明的示例性實施方式涉及一種光學片及其制造方法。更具體 地，本發(fā)明的示例性實施方式涉及一種具有增強的光學特性的光學片 及其制造方法。

2.相關技術的描述

總體而言，液晶顯示(LCD)裝置的LCD面板包括彼此面對的兩 個基底以及插入兩個基底之間的液晶層。LCD面板控制液晶層的透光 率，以顯示圖像。

LCD裝置與其他顯示裝置相比具有例如厚度薄、重量輕、驅動電 壓低以及低功耗等特性，因而LCD裝置已用于許多工業(yè)領域并廣泛用 于便攜式計算機、通信裝置和電視中。然而，由于LCD裝置的LCD 面板是本身不能發(fā)光的非發(fā)光器件，因此在LCD裝置中需要為LCD 面板提供光的背光組件。

背光組件包括光源和用于增強光源所產(chǎn)生的光的光學特性的光學 片。光學片包括棱鏡片、漫射片、導光板等。

當光學片包括各種光學片時，可以增強背光組件的光學特性。然 而，當光學片的數(shù)量增大時，組件的特性可能下降并且制造成本可能 提高。

此外，由于劃痕而產(chǎn)生的缺陷可能會在光學片彼此接觸的區(qū)域出 現(xiàn)。

另外，LCD裝置的視角可能因液晶層的厚度而受到限制。

發(fā)明內容

本發(fā)明的示例性實施方案提供了一種具有增強的光學特性的光學 片。

本發(fā)明的示例性實施方案還提供了一種制造上述光學片的方法。

根據(jù)本發(fā)明的一個方面，光學片包括基膜、多個棱鏡圖案和漫射 部件，在基膜中，光從下側入射。棱鏡圖案在基膜上突出以彼此分離， 從而增強從基膜的下側入射的光的正面亮度。漫射部件設置在棱鏡圖 案之間，以具有與基膜平行的漫射面。漫射部件包括多個漫射點，漫 射點能夠增強從基膜的下側入射的光的亮度均勻性。

根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，光學片包括基膜、多個棱鏡圖案和漫 射部件，在基膜中，光從下側入射。棱鏡圖案在基膜上突出以彼此分 離，從而增強從基膜的下側入射的光的正面亮度。漫射部件設置在棱 鏡圖案之間，以具有與基膜平行的漫射面。漫射部件包括多個漫射槽， 漫射槽增強從基膜的下側入射的光的亮度均勻性。

根據(jù)本發(fā)明的再一個方面，光學片包括基膜、多個棱鏡圖案、漫 射部件和輔助漫射部件。基膜包括棱鏡區(qū)、漫射區(qū)以及位于棱鏡區(qū)和 漫射區(qū)之間的輔助漫射區(qū)。棱鏡圖案包括由基膜上的棱鏡區(qū)內的彼此 分開的斜面形成的直角三角形。漫射部件設置在基膜上的漫射區(qū)內， 并且位于相鄰的棱鏡圖案的相鄰的下側之間。漫射部件包括與基膜平 行的漫射面。漫射部件包括位于漫射面上的多個漫射點。輔助漫射部 件位于輔助漫射區(qū)中以具有與棱鏡圖案和漫射部件相同的材料。輔助 漫射部件與棱鏡圖案和漫射部件一體形成。輔助漫射部件位于棱鏡圖 案的相鄰的上側之間，以對穿過其入射的光進行折射或反射。

根據(jù)本發(fā)明的又一個方面，光學片包括第一基膜和光控膜。光控 膜包括多個空氣通道、多個棱鏡圖案以及有機層。空氣通道位于第一 基膜上，從而在與第一基膜平行的方向上排列。棱鏡圖案附接于第一 基膜的上表面上。有機層覆蓋棱鏡圖案的上邊緣，以限定出空氣通道 的上表面。每個空氣通道的側面邊緣為圓形。

根據(jù)本發(fā)明的還一個方面，光學片包括第一基膜、暫時粘著層和 第二基膜。暫時粘著層位于第一基膜上，暫時粘著層包括形成于其上 且平行于第一基膜排列的多個凹槽以及位于相鄰的凹槽間的接觸部 分。第二基膜附接至接觸部分以覆蓋凹槽。

根據(jù)本發(fā)明的又一個方面，光學片包括第一基膜、第一暫時粘著 層、第二基膜、第二暫時粘著層以及第三基膜。第一暫時粘著層位于 第一基膜上。第一暫時粘著層包括形成于其上且平行于第一基膜排列 的多個第一凹槽以及位于相鄰的第一凹槽間的第一接觸部分。第二基 膜附接在第一接觸部分上，以覆蓋第一凹槽。第二暫時粘著層位于第 二基膜上。第二暫時粘著層包括形成于其上且彼此平行排列的多個第 二凹槽以及位于相鄰的第二凹槽間的第二接觸部分。第三基膜附著在 第二接觸部分上，以覆蓋第二凹槽。