[發明專利]足跟減壓裝置

無效

• 申請號: 200910158540.1
• 申請日: 2009-07-10
• 公開（公告）號: CN101946988A
• 公開（公告）日: 2011-01-19
• 發明（設計）人: 曾讚育
• 申請（專利權）人: 曾讚育
• 主分類號: A41D13/06
• 分類號: A41D13/06
• 代理公司: 北京市立方律師事務所 11330
• 代理人: 張磊

1.一種足跟減壓裝置，包括：

具有一定厚度的本體；

足跟部，所述足跟部形成在所述本體上以供承受人體足跟后方靠近腳后跟的部分；以及

高低落差部，所述高低落差部位于所述本體上，包括有高低落差起始部及高低落差終止部，所述高低落差起始部鄰接于所述足跟部，所述高低落差終止部位于所述高低落差起始部的前方，且所述本體的厚度自所述高低落差起始部朝前遞減至所述高低落差終止部。

2.如權利要求1所述的足跟減壓裝置，所述本體上進一步包括有傾斜周緣部；所述傾斜周緣部鄰接于所述足跟部的后方及兩側而呈倒角狀，且在所述傾斜周緣部的范圍內，所述本體的厚度由內而外遞減。

3.如權利要求2所述的足跟減壓裝置，所述傾斜周緣部向前延伸至所述高低落差部的兩側以及所述高低落差部的前方。

4.如權利要求1所述的足跟減壓裝置，所述本體為由緩沖材質所構成的鞋墊。

5.如權利要求2所述的足跟減壓裝置，所述本體為由緩沖材質所構成的鞋墊。

6.如權利要求1所述的足跟減壓裝置，所述本體為由緩沖材質所構成的鞋底。

7.如權利要求2所述的足跟減壓裝置，所述本體為由緩沖材質所構成的鞋底。

8.如權利要求1至7項中任一項所述的足跟減壓裝置，所述本體具有頂面，所述足跟部及高低落差部形成于所述本體的頂面上。

9.如權利要求1至5項中任一項所述的足跟減壓裝置，所述本體具有底面，所述足跟部及高低落差部形成于所述本體的底面上。

10.如權利要求8所述的足跟減壓裝置，進一步包括一柔軟材，所述柔軟材設于所述高低落差部而令所述本體呈現平直狀。

11.如權利要求9所述的足跟減壓裝置，進一步包括一柔軟材，所述柔軟材設于所述高低落差部而令所述本體呈現平直狀。