[發明專利]一種基于形狀特征的帶邊框矩形印章圖形提取方法

有效

• 申請號: 200910150816.1
• 申請日: 2009-06-15
• 公開（公告）號: CN101576958A
• 公開（公告）日: 2009-11-11
• 發明（設計）人: 宋永紅;姚志茂;孟高峰;張元林;萬湘琳
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: G06K9/46
• 分類號: G06K9/46
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司
• 代理人: 陸萬壽

1.一種基于形狀特征的帶邊框矩形印章圖形的提取方法，其特 征在于，按照以下步驟：

(1)對目標圖像前景層連通分支進行篩選，去除目標圖像中不滿 足印章尺寸規格的小連通分支；

(2)對目標圖像背景層連通分支進行篩選，剔除目標圖像背景層 連通分支遠大于或遠小于印章尺寸規格的連通分支；

(3)采用圖像分割中的分水嶺算法來提取目標圖像中封閉圖形 的骨架，利用骨架點在印章內部的最長游長來判斷直線方向和去除毛 刺；

(4)根據用戶提供的印章尺寸規格進行印章提取；

所述步驟(1)是按照如下步驟：先對二值圖像I進行第一連通區 域標記，得到二值圖像I中的所有連通分支；再對二值圖像I中每一 個連通分支所對應的二值圖像區域進行反色處理，然后對反色圖進行 第二連通區域標記，將標記圖中所有大于1的標記值清零，得到中連 通分支的外邊界所包圍的第三連通區域；其次對得到的第三連通區域 的二值圖像進行形態學腐蝕操作，結構元采用圓形結構元，半徑設為 r₁；最后在腐蝕后的圖像上檢測面積大于1的區域，這些區域所對應 的目標圖像中的連通分支滿足篩選要求；將所有不滿足要求的連通分 支從二值圖像I中去除；

所述步驟(2)是是按照如下步驟：先對二值圖像I進行取反，得 到反色圖再對反色圖進行第二連通區域標記，并逐個分析得到 的第二連通區域；其次對于所有滿足要求需要保留的第二連通區域 對進行形態學膨脹操作，然后將其作為模板覆蓋 在上；然后對于二值圖像I上模板外的像素置為圖像背景色，而對 于二值圖像I上模板內的像素則保持不變；最后將得到的圖像進行反 色處理，得到最終連通分支篩選后的結果；

所述步驟(4)中根據用戶提供的印章尺寸規格矩形進行印章提取 是指：首先通過HOUGH變換檢測連通分支中滿足印章邊長尺寸約束的 直線段，然后通過分析這些直線段之間的相互對應關系來判斷它們是 否構成矩形，最后根據用戶提供的印章尺寸規格來確定所提取的矩形 印章的長邊的范圍、短邊的范圍以及印章傾斜角的范圍并提取出滿足 要求的矩形印章。

2.根據權利要求1所述一種基于形狀特征的帶邊框矩形印章圖 形的提取方法，其特征在于：所述步驟(3)是先利用圖像分割中的分 水嶺算法來提取目標圖像中封閉圖形的骨架，對于提取出來的骨架上 的每個像素點進行各個方向的黑色游長計算并記錄最長黑色游長的 長度，然后設定閾值對最長黑色游長長度低于閾值的骨架點進行去 除。