[發(fā)明專利]一種正向投影屏及其制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910149608.X
• 申請(qǐng)日: 2009-06-08
• 公開（公告）號(hào): CN101907821A
• 公開（公告）日: 2010-12-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 陳波
• 主分類號(hào): G03B21/26
• 分類號(hào): G03B21/26;G02B3/00;G02B3/02;G03F1/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種正向投影屏，由非球面微透鏡列陣組成，含有二個(gè)以上微透鏡單元，其特征在于：

a.所說的所有微透鏡單元在一個(gè)方向上具有相同的光焦度。

b.所說的所有微透鏡單元在另一垂直的方向上具有相同的光焦度。

c.所說的所有微透鏡單元表面浮雕結(jié)構(gòu)不同，其反射形成的觀察帶(108)重合。

2.權(quán)利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡單元在一個(gè)方向上的光焦度大于另一方向的光焦度。

3.權(quán)利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡為凹面鏡。

4.權(quán)利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡為凸面鏡。

5.權(quán)利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡列陣其組成材料具有寬帶高反射特性，以反射光線。

6.權(quán)利要求1所說的一種正向投影屏，還可以鍍有寬帶高反射膜，共形附著在所說的非球面微透鏡列陣上，以反射光線。

7.權(quán)利要求4所說的一種正向投影屏，所說的高反射膜是鋁膜或多層介質(zhì)膜。

8.權(quán)利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡列陣添充率為1。

9.權(quán)利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡單元為方形或長(zhǎng)方形。

10.權(quán)利要求1所說的一種正向投影屏，還可以有支撐材料以支撐所說的微透鏡列陣，微透鏡列陣層附著在支撐材料上。

11.權(quán)利要求10所說的一種正向投影屏，所說的支撐材料是可彎曲的形狀記憶材料。

12.一種非球面微透鏡列陣的制作方法，步驟包括

a.將光敏材料涂敷在基底上，形成光刻膠版。

b.第一次曝光：用第一個(gè)周期性二元圖案在光刻膠版上曝光，曝光過程中，二元圖案與光刻膠版之間相對(duì)移動(dòng)至少一個(gè)周期，移動(dòng)方向與第一個(gè)周期性二元圖案的周期方向一致。

c.第二次曝光：用第二個(gè)周期性二元圖案在光刻膠版上曝光，曝光過程中，二元圖案與光刻膠版之間相對(duì)移動(dòng)至少一個(gè)周期，移動(dòng)方向與第二個(gè)周期性二元圖案的周期方向一致。第二次曝光的移動(dòng)方向在光刻膠版上與第一次曝光的移動(dòng)方向垂直。

d.在顯影液中刻蝕，形成所說的非球面微透鏡列陣。

13.權(quán)利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的周期性二元圖案由二元掩模與光刻膠版緊密貼合，均勻光照透過二元掩模形成。

14.權(quán)利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的周期性二元圖案由光學(xué)投影系統(tǒng)在所說的光刻膠版上投影形成。

15.權(quán)利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的光敏材料是正性或負(fù)性光刻膠。

16.權(quán)利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的周期性二元圖案在一個(gè)方向上有周期性，在另一垂直方向上沒有周期性。

17.權(quán)利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所形成的非球面微透鏡列陣為原始模版，可用表面浮雕復(fù)制技術(shù)復(fù)制出工作模版或最終產(chǎn)品。

18.權(quán)利要求17所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的表面浮雕復(fù)制技術(shù)為電鍍技術(shù)。

19.權(quán)利要求17所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的表面浮雕復(fù)制技術(shù)為樹脂固化技術(shù)。

20.權(quán)利要求17所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的工作模版可用于模壓成型或樹脂固化，以批量生產(chǎn)浮雕型微透鏡列陣的最終產(chǎn)品。