[發(fā)明專利]納米壓印用固化性組合物、圖案形成方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910149348.6
• 申請日: 2009-06-16
• 公開（公告）號: CN101609255A
• 公開（公告）日: 2009-12-23
• 發(fā)明（設計）人: 高柳丘;藤田明德
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 朱 丹

1.一種納米壓印用固化性組合物，其特征在于，

含有光聚合引發(fā)劑和87質量％以上的單官能聚合性化合物。

2.根據(jù)權利要求1所述的納米壓印用固化性組合物，其特征在于，

含有2種以上的單官能聚合性化合物。

3.根據(jù)權利要求2所述的納米壓印用固化性組合物，其特征在于，

在所述的2種以上的單官能聚合性化合物中，1種單官能聚合性化合物具有的聚合性官能團與其余化合物中的1種單官能聚合性化合物具有的聚合性官能團不同。

4.根據(jù)權利要求2或3所述的納米壓印用固化性組合物，其特征在于，

作為所述2種以上的單官能聚合性化合物，至少含有(1)1種以上的丙烯酸酯化合物和(2)丙烯酰胺化合物或N-乙烯系化合物。

5.根據(jù)權利要求1～4中任意一項所述的納米壓印用固化性組合物，其特征在于，

進一步含有硅樹脂。

6.根據(jù)權利要求1～5中任意一項所述的納米壓印用固化性組合物，其特征在于，

進一步含有：長鏈烷基羧酸或其金屬鹽或者羧酸長鏈烷基酯。

7.根據(jù)權利要求1～6中任意一項所述的納米壓印用固化性組合物，其特征在于，

進一步含有非離子系表面活性劑。

8.根據(jù)權利要求1～7中任意一項所述的納米壓印用固化性組合物，其特征在于，

25℃下的粘度為2～40mPa·s。

9.一種納米壓印光刻法中的圖案形成方法，其特征在于，

包括：

將權利要求1～8中任意一項所述的納米壓印用固化性組合物進行涂布、固化來形成膜厚為0.03～40μm的膜的工序；和

在所形成的膜上，形成圖案的工序。

10.一種抗蝕劑圖案形成方法，其中，

包括：

涂布權利要求1～8中任意一項所述的納米壓印用固化性組合物的工序；

將光透過性塑模加壓于基板上的抗蝕劑層，使所述納米壓印用固化性組合物變形的工序；和

從塑模背面或基板背面照射光，使涂膜固化，從而形成嵌合于需要的圖案的抗蝕劑圖案的工序。