[發明專利]顯影處理方法和顯影處理裝置

有效

• 申請號: 200910149129.8
• 申請日: 2009-06-17
• 公開（公告）號: CN101609269A
• 公開（公告）日: 2009-12-23
• 發明（設計）人: 竹口博史;山本太郎;吉原孝介
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;H01L21/00
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍 淳

1.一種顯影處理方法，其為使被水平保持的襯底旋轉并向該襯底 表面供給顯影液實施顯影處理的顯影處理方法，其特征在于：

在所述顯影處理工序之前，具備預濕工序，在該預濕工序中，從 位于旋轉的襯底表面的中心附近的第一噴嘴供給顯影液，同時從位于 比第一噴嘴靠向襯底外周側的位置的第二噴嘴供給第二液體，由隨著 所述襯底的旋轉而向襯底的外周側流動的第二液體形成壁，利用該壁 使顯影液在襯底的旋轉方向擴展，

與所述顯影液相比，所述第二液體的表面張力小、密度小或者粘 性低，

所述襯底的轉速為250rpm～3000rpm。

2.如權利要求1所述的顯影處理方法，其特征在于：

所述第二液體是純水。

3.如權利要求1所述的顯影處理方法，其特征在于：

在同時供給所述顯影液和所述第二液體之前，具備使所述第二噴 嘴移動至襯底的中心部上方向襯底表面供給所述第二液體的工序。

4.一種顯影處理方法，其為使被水平保持的襯底旋轉并向該襯底 表面供給顯影液實施顯影處理的顯影處理方法，其特征在于：

在所述顯影處理工序之前，具備預濕工序，在該預濕工序中，從 位于旋轉的襯底表面的中心附近的第一噴嘴供給顯影液，同時從位于 比第一噴嘴靠向襯底外周側的位置的第二噴嘴供給第二液體，并且， 使第一噴嘴和第二噴嘴沿著連接襯底的中心部和外周部的方向移動， 由隨著所述襯底的旋轉而向襯底的外周側流動的第二液體形成壁，利 用該壁使顯影液在襯底的旋轉方向擴展，

與所述顯影液相比，所述第二液體的表面張力小、密度小或者粘 性低，

所述襯底的轉速為250rpm～3000rpm。

5.如權利要求4所述的顯影處理方法，其特征在于：

所述第二液體是純水。

6.如權利要求4所述的顯影處理方法，其特征在于：

在同時供給所述顯影液和所述第二液體之前，具備使所述第二噴 嘴移動至襯底的中心部上方向襯底表面供給所述第二液體的工序。

7.一種顯影處理裝置，其為用于使被水平保持的襯底旋轉并向該 襯底表面供給顯影液實施顯影處理的顯影處理裝置，其特征在于，具 備：

將襯底保持水平的襯底保持單元；

使所述襯底在水平面內旋轉的旋轉機構；

在所述襯底利用所述旋轉機構旋轉的狀態下，向襯底表面供給顯 影液的第一噴嘴；

位于比所述第一噴嘴靠向襯底外周側的位置，向襯底表面供給第 二液體的第二噴嘴；和

控制所述旋轉機構、第一噴嘴和第二噴嘴的驅動的控制單元，其 中，

所述控制單元使得在向所述襯底供給顯影液的顯影處理之前進行 預濕處理，在該預濕處理中，驅動所述旋轉機構，使所述襯底旋轉， 從位于襯底表面的中心附近的所述第一噴嘴供給顯影液，同時從位于 比第一噴嘴靠向襯底外周側的位置的所述第二噴嘴供給第二液體，由 隨著所述襯底的旋轉而向襯底的外周側流動的第二液體形成壁，利用 該壁使得顯影液在襯底的旋轉方向擴展，

與所述顯影液相比，所述第二液體的表面張力小、密度小或者粘 性低，

所述襯底的轉速為250rpm～3000rpm。

8.如權利要求7所述的顯影處理裝置，其特征在于：

所述第二液體是純水。

9.如權利要求7所述的顯影處理裝置，其特征在于：

所述控制單元在使所述第一噴嘴和第二噴嘴移動、同時供給顯影 液和第二液體之前，使所述第二噴嘴移動至襯底的中心部上方，向襯 底表面供給第二液體。