[發(fā)明專利]光器件晶片的分割方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910148838.4 | 申請(qǐng)日: | 2009-06-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101604659A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-12-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 星野仁志;山口崇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社迪思科 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/78 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/78;H01L21/50;H01L21/304;B28D5/00;B23K26/38 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 器件 晶片 分割 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及將光器件晶片沿著間隔道分割成一個(gè)個(gè)光器件的光器件 晶片的分割方法,該光器件晶片在藍(lán)寶石基板等基板的表面上通過(guò)形成 為格子狀的間隔道劃分有多個(gè)區(qū)域,并且在該劃分出的區(qū)域內(nèi)層疊有氮 化鎵類(lèi)化合物半導(dǎo)體等光器件。
背景技術(shù)
關(guān)于在藍(lán)寶石基板的表面上通過(guò)形成為格子狀的被稱為間隔道的分 割預(yù)定線劃分有多個(gè)區(qū)域、并且在該劃分出的區(qū)域內(nèi)層疊有氮化鎵類(lèi)化 合物半導(dǎo)體等光器件的光器件晶片,沿著間隔道被分割成一個(gè)個(gè)發(fā)光二 極管等光器件,并廣泛利用于電氣設(shè)備。
關(guān)于上述光器件晶片,在沿著間隔道進(jìn)行分割之前利用磨削裝置對(duì) 背面進(jìn)行磨削,從而加工至預(yù)定厚度。近年來(lái),為了實(shí)現(xiàn)電氣設(shè)備的輕 量化、小型化,要求使光器件的厚度在50μm以下。然而,當(dāng)光器件晶片 的厚度被磨削變薄而達(dá)到50μm以下時(shí),存在光器件晶片產(chǎn)生破裂的問(wèn) 題。
另一方面,光器件晶片的沿著間隔道的切斷通常是利用使切削刀具 高速旋轉(zhuǎn)來(lái)進(jìn)行切削的切削裝置進(jìn)行的。但是,由于藍(lán)寶石基板是莫氏 硬度高的難切削材料,所以需要降低加工速度,存在生產(chǎn)效率差的問(wèn)題。
近年來(lái),作為沿著間隔道分割光器件晶片等晶片的方法,提出了如 下方法:通過(guò)沿著間隔道照射相對(duì)于晶片具有吸收性的波長(zhǎng)的脈沖激光 光線來(lái)形成激光加工槽,通過(guò)沿著該激光加工槽施加外力,使晶片沿著 間隔道斷裂。(例如,參照專利文獻(xiàn)1。)
專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平10-305420號(hào)公報(bào)
此外,作為沿著間隔道分割光器件晶片等晶片的方法,還提出了如 下方法:使用相對(duì)于晶片具有透射性的波長(zhǎng)的脈沖激光光線,以聚光點(diǎn) 對(duì)準(zhǔn)晶片內(nèi)部的方式沿著間隔道照射該脈沖激光光線,由此在晶片內(nèi)部 沿著間隔道連續(xù)地形成變質(zhì)層,沿著因?yàn)樾纬稍撟冑|(zhì)層而強(qiáng)度降低了的 間隔道施加外力,從而使晶片沿著間隔道斷裂。(例如,參照專利文獻(xiàn)2。)
專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2008-6492號(hào)公報(bào)
然而,如果沿著光器件晶片的間隔道照射激光光線來(lái)形成激光加工 槽或變質(zhì)層,并沿著形成有激光加工槽或變質(zhì)層的間隔道將光器件晶片 分割成一個(gè)個(gè)光器件的話,則在被分割成一個(gè)一個(gè)的光器件的側(cè)面(斷 裂面)會(huì)殘留因激光加工而生成的變質(zhì)物,存在光器件的光亮度降低且 抗彎強(qiáng)度降低的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述事實(shí)而完成的,其主要的技術(shù)課題在于提供一種 光器件晶片的分割方法,該方法能夠使光器件晶片的厚度形成得很薄, 并且能夠在不降低光器件光亮度的同時(shí)防止抗彎強(qiáng)度的降低。
為了解決上述主要的技術(shù)課題,根據(jù)本發(fā)明,提供一種光器件晶片 的分割方法,其是將光器件晶片沿著多個(gè)間隔道分割成一個(gè)個(gè)光器件的 方法,上述光器件晶片在表面上通過(guò)形成為格子狀的多個(gè)間隔道劃分出 了多個(gè)區(qū)域,在該多個(gè)區(qū)域中形成有光器件,其特征在于,
該光器件晶片的分割方法包括以下工序:
保護(hù)板接合工序,將光器件晶片的表面通過(guò)能夠剝離的接合劑接合 到剛性高的保護(hù)板的表面上;
背面磨削工序,對(duì)粘貼在上述保護(hù)板上的光器件晶片的背面進(jìn)行磨 削,從而使光器件晶片形成為器件的最終厚度;
加強(qiáng)基板接合工序,將剛性高的加強(qiáng)基板的表面通過(guò)能夠剝離的接 合劑接合到實(shí)施了上述背面磨削工序的光器件晶片的背面上;
晶片剝離工序,將接合有上述加強(qiáng)基板的光器件晶片從上述保護(hù)板 上剝離;
切割帶粘貼工序,將接合有上述加強(qiáng)基板的光器件晶片的表面粘貼 到切割帶的表面上;
激光加工工序,實(shí)施如下所述的激光加工:從與粘貼在上述切割帶 上的光器件晶片接合的上述加強(qiáng)基板的背面?zhèn)龋刂纬稍诠馄骷? 上的間隔道照射激光光線,從而在上述加強(qiáng)基板中沿著間隔道形成斷裂 起點(diǎn);以及
晶片分割工序,沿著實(shí)施了上述激光加工工序的上述加強(qiáng)基板的斷 裂起點(diǎn)施加外力,使上述加強(qiáng)基板沿著斷裂起點(diǎn)斷裂,從而使光器件晶 片沿著間隔道斷裂從而分割成一個(gè)個(gè)光器件。
在上述激光加工工序中,通過(guò)將聚光點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)上述加強(qiáng)基板的內(nèi)部來(lái) 照射相對(duì)于加強(qiáng)基板具有透射性的波長(zhǎng)的激光光線,從而在加強(qiáng)基板的 內(nèi)部沿著間隔道形成作為斷裂起點(diǎn)的變質(zhì)層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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