[發明專利]混合多重采樣/超采樣抗鋸齒有效
| 申請號: | 200910148769.7 | 申請日: | 2009-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN101620725A | 公開(公告)日: | 2010-01-06 |
| 發明(設計)人: | 卡斯·W.·埃弗里特;史蒂文·E.·莫爾納 | 申請(專利權)人: | 輝達公司 |
| 主分類號: | G06T1/20 | 分類號: | G06T1/20;G06T15/00;G06T5/00 |
| 代理公司: | 北京市磐華律師事務所 | 代理人: | 董 巍;顧 珊 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 混合 多重 采樣 鋸齒 | ||
1.一種配置成用混合抗鋸齒對圖形圖元進行著色的計算裝置,所述 計算裝置包括:
光柵化器,所述光柵化器包括混合抗鋸齒控制單元,所述混合抗鋸齒 控制單元配置用來:
接收圖形圖元;
確定用于對與圖形圖元交叉的每個像素進行抗鋸齒處理的超采
樣簇的數量;
確定用于為每個超采樣簇處理圖形圖元的多重樣本的數量;以及
片段著色單元,所述片段著色單元與所述光柵化器相連接,并設置為 使用通過片段著色單元的多個通道對圖形圖元著色,其中用于產生和圖形 圖元交叉的每個混合抗鋸齒像素的多個通道的數量少于或等于超采樣簇的 數量。
2.根據權利要求1所述的計算裝置,其中所述超采樣簇的數量基于 所述計算裝置的渲染狀態來確定。
3.根據權利要求2所述的計算裝置,其中所述渲染狀態包括高品質 模式設置、高性能設置、alpha測試設置和使用具有高頻內容的紋理貼圖 中的一種或多種。
4.根據權利要求1所述的計算裝置,其中所述片段著色單元進一步 被設置為產生后著色器覆蓋,所述后著色器覆蓋表明對于每個超采樣簇來 說,哪個多重樣本被圖形圖元所覆蓋。
5.根據權利要求4所述的計算裝置,進一步包括光柵運算單元,所 述光柵運算單元連接于所述片段著色單元,并被設置為根據所述后著色器 覆蓋范圍對由圖形圖元所覆蓋的每個多重樣本進行圖形圖元的z測試,以 產生z測試值。
6.根據權利要求5所述的計算裝置,其中所述光柵運算單元進一步 被設置成為和每個所述圖形圖元相交叉的一部分z緩沖器來壓縮z測試值。
7.根據權利要求1所述的計算裝置,其中被用來對和第一個圖形圖 元相交叉的每個像素進行抗鋸齒處理的所述超采樣簇的數量不同于被用來 對和第二個圖形圖元相交叉的每個像素進行抗鋸齒處理的所述超采樣簇的 數量。
8.根據權利要求1所述的計算裝置,其中被用來產生和圖形圖元相 交叉的每個混合抗鋸齒化像素的多個通道的數量不包括不具有被所述圖形 圖元覆蓋的至少一個多重樣本的任何超采樣簇的通道。
9.根據權利要求1所述的計算裝置,其中所述片段著色單元進一步 被設置為對所述圖形圖元進行著色,所述著色是通過對每個所述超采樣簇 中的僅僅其中一個所述多重樣本計算著色值,并為處于同一超采樣簇中的 其他多重樣本復制所述著色值來進行的。
10.根據權利要求1所述的計算裝置,其中所述片段著色單元進一步 被設置用于通過下列方式為所述超采樣簇中的第一個超采樣簇計算著色 值:
使用在所述第一個超采樣簇中的第一個多重樣本的位置;
使用被圖形圖元覆蓋的所述第一個超采樣簇中的多重樣本的幾何質 心作為質心;或
使用在第一個超采樣簇中被圖形圖元覆蓋并最接近第一個超采樣簇 的幾何質心的多重樣本作為近似質心。
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