[發明專利]水處理裝置以及水處理裝置過濾用材料層的清洗方法

有效

• 申請號: 200910147368.X
• 申請日: 2009-06-18
• 公開（公告）號: CN101607755A
• 公開（公告）日: 2009-12-23
• 發明（設計）人: 三村等;向井清和
• 申請（專利權）人: 株式會社永岡
• 主分類號: C02F1/74
• 分類號: C02F1/74;C02F1/64;B01D24/02
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種水處理裝置過濾用材料層的清洗方法，

該水處理裝置包括原水送水管、一個或多個原水混流噴嘴、 過濾槽、過濾水排出管、反清洗水供給管、多個上層清洗噴嘴 和排水槽或排水口；上述原水混流噴嘴的一端部與該原水送水 管相連通，另一端部具有將原水做成原水與空氣的混流噴射水 流噴出的原水噴出口；上述過濾槽用于收容過濾用材料層，該 過濾用材料層由使表面與該原水混流噴嘴的原水噴出口隔開規 定間隔地配置在該原水混流噴嘴的下方的上層和下層這兩層構 成，該上層由比該下層的過濾用材料比重小且粒徑大的過濾用 材料構成；上述過濾水排出管設在該過濾槽上，用于排出被該 過濾用材料層過濾了的水；上述反清洗水供給管設在該過濾槽 上，用于向該過濾用材料層供給反清洗水；上述上層清洗噴嘴 的一端部與上層清洗水送水管相連通，另一端部具有將清洗水 做成噴射水流噴出的清洗水噴出口，該上層清洗噴嘴以該清洗 水噴出口位于該過濾用材料層的上層的表面附近的方式以規定 間隔配置在該上層的上方；上述排水槽或排水口設在該過濾槽 的位于該過濾用材料層的上方的位置，該水處理裝置過濾用材 料層的清洗方法是對地下水處理用的水處理裝置的該過濾用材 料層進行清洗的方法，其特征在于，

選擇用于清洗該上層的局部清洗、用于清洗該上層以及該 下層雙方的整體清洗中的任意一個來進行該過濾用材料層的清 洗，該整體清洗主要用于去除被該下層捕捉的錳，該局部清洗 主要用于去除被該上層捕捉的鐵，局部清洗工序包括：

(1)過濾處理中斷工序，停止供給原水，進行過濾處理， 從而將過濾槽的水位降低到規定水位；

(2)上層清洗工序，使反清洗水以上層清洗速度自該反 清洗水供給管流入，利用上升流使該上層的過濾用材料層疏松 并且自該上層清洗噴嘴的清洗水噴出口噴出清洗水而對包含已 捕捉有鐵的過濾用材料的層的上層的過濾用材料進行攪拌清 洗；

(3)靜置工序，在結束該上層的過濾用材料的攪拌清洗 之后，以該上層清洗速度繼續供給上升流并且使該上層的被攪 拌后的過濾用材料沉淀；

(4)污水排出工序，以該上層清洗速度繼續供給上升流 而自該排水槽或排水口排出含有自該上層的過濾用材料分離出 的污濁成分的污水；

整體清洗工序包括：

(1)過濾處理中斷工序，停止供給原水，進行過濾處理， 從而將過濾槽的水位降低到規定水位；

(2)清洗工序，使反清洗水以大于該上層清洗速度的整 體清洗速度自該反清洗水供給管流入，攪拌該上層以及該下層 的過濾用材料并且自該上層清洗噴嘴的清洗水噴出口噴出清洗 水而對該上層以及該下層的過濾用材料進行清洗；

(3)靜置工序，在結束該上層和下層的過濾用材料的清 洗之后，以該上層清洗速度繼續供給上升流并且使該上層以及 下層的過濾用材料沉淀；

(4)污水排出工序，以該上層清洗速度繼續供給上升流 而自該排水槽或排水口排出含有自該上層以及下層的過濾用材 料分離出的污濁成分的污水；

該整體清洗工序以比該局部清洗工序小的頻率進行。

2.根據權利要求1所述的水處理裝置過濾用材料層的清洗 方法，其特征在于，

該局部清洗工序包括這樣的工序：在該過濾處理中斷工序 中將該過濾層的水位降低到該上層的下部之后，在該上層清洗 工序中，自該上層清洗噴嘴中的一部分的噴嘴朝向該上層的下 部中央部噴出噴射水流，從而對該上層進行穿孔。