[發明專利]液體噴出頭及其制造方法

有效

• 申請號: 200910147276.1
• 申請日: 2009-06-19
• 公開（公告）號: CN101607476A
• 公開（公告）日: 2009-12-23
• 發明（設計）人: 石田讓;松居孝浩;齊藤一郎
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: B41J2/14
• 分類號: B41J2/14;B41J2/16
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所
• 代理人: 劉新宇

1.一種液體噴出頭，其具有噴出液體用的噴出口，該液體噴出頭包括：

基板，其包括用于產生從所述噴出口噴出液體用的熱能的熱產生部以及被設置成覆蓋所述熱產生部的層；以及

由樹脂制成并且被設置成與所述層接觸的構件，該構件包括與所述噴出口連通的液體流路的壁；其中，

所述層的與所述熱產生部對應的部分含有作為主要成分的貴金屬，并且該部分的每單位體積的所述貴金屬的原子百分數的值比所述層的與所述構件接觸的部分的每單位體積的所述貴金屬的原子百分數的值大，

所述液體噴出頭包括暴露于所述流路并且被電連接到所述層的與所述熱產生部對應的部分的電極。

2.根據權利要求1所述的液體噴出頭，其特征在于，能夠通過在所述電極與所述層之間施加電壓來電解所述層的與所述熱產生部對應的部分的表面。

3.根據權利要求1所述的液體噴出頭，其特征在于，所述層含有氧原子。

4.根據權利要求3所述的液體噴出頭，其特征在于，所述層的與所述構件接觸的部分的每單位體積的氧的原子百分數的值比所述層的與所述熱產生部對應的部分的每單位體積的氧的原子百分數的值大。

5.根據權利要求3所述的液體噴出頭，其特征在于，所述層的與所述構件接觸的部分的每單位體積的氧的原子百分數隨著從所述構件側靠近所述基板而減少。

6.根據權利要求1所述的液體噴出頭，其特征在于，所述貴金屬是銥，所述層的與所述構件接觸的部分含有氧化銥。

7.根據權利要求1所述的液體噴出頭，其特征在于，在所述層中，與所述熱產生部對應的部分和與所述構件接觸的部分連續。

8.一種液體噴出頭的制造方法，該液體噴出頭具有噴出液體用的噴出口；該方法包括以下步驟：

設置基板，在所述基板中設置用于產生從所述噴出口噴出液體用的熱能的熱產生部和被設置成覆蓋所述熱產生部的層，該層包括貴金屬的氧化物；

在所述層上設置由樹脂制成的構件，該構件包括與所述噴出口連通的流路的壁；以及

通過對所述熱產生部進行加熱來還原所述層的與所述熱產生部對應的部分。

9.根據權利要求8所述的液體噴出頭的制造方法，其特征在于，進行所述還原步驟，使得所述層的與所述構件接觸的部分的每單位體積的氧的原子百分數的值大于所述層的與所述熱產生部對應的部分的每單位體積的氧的原子百分數的值。

10.根據權利要求8所述的液體噴出頭的制造方法，其特征在于，進行所述還原步驟，使得所述層的與所述構件接觸的部分的每單位體積的貴金屬的原子百分數的值小于所述層的與所述熱產生部對應的部分的每單位體積的貴金屬的原子百分數的值。

11.根據權利要求8所述的液體噴出頭的制造方法，其特征在于，包括貴金屬的氧化物的所述層被形成為其氧含量能隨著從所述層的所述構件側的表面靠近所述層的所述基板側的表面而減少。

12.根據權利要求8所述的液體噴出頭的制造方法，其特征在于，利用反應濺射方法形成包括貴金屬的氧化物的所述層。

13.根據權利要求8所述的液體噴出頭的制造方法，其特征在于，所述貴金屬是銥，在所述還原步驟中被還原的所述層的與所述熱產生部對應的部分是二氧化銥。