[發明專利]光學記錄介質及用于光學記錄介質的記錄方法和記錄裝置

有效

• 申請號: 200910146657.8
• 申請日: 2003-12-12
• 公開（公告）號: CN101587716A
• 公開（公告）日: 2009-11-25
• 發明（設計）人: 久保秀之;竹島秀治
• 申請（專利權）人: 三菱化學媒體股份有限公司
• 主分類號: G11B7/0045
• 分類號: G11B7/0045;G11B7/007
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 李 輝

1.一種用于具有多個記錄層的光學記錄介質的記錄方法，其包括以下步驟：

最佳功率控制記錄功率設置步驟，在所述多個記錄層中的每一個上進行記錄之前進行最佳功率控制，以針對所述多個記錄層中的每一個設置最佳功率控制記錄功率；以及

初始記錄功率設置步驟，當在一個記錄層上進行記錄之后，在另一記錄層上進行記錄之前，根據針對所述一個記錄層的實際記錄功率相對于在所述最佳功率控制記錄功率設置步驟為一個記錄層設置的最佳功率控制記錄功率的變化，來校正在所述最佳功率控制記錄功率設置步驟中為另一記錄層設置的最佳功率控制記錄功率，以設置當開始在另一記錄層上進行記錄時要使用的記錄功率。

2.如權利要求1所述的用于光學記錄介質的記錄方法，其中，連續地進行在所述一個記錄層上的記錄和在所述另一記錄層上的記錄。

3.如權利要求1所述的用于光學記錄介質的記錄方法，其中，當在所述光學記錄介質上進行記錄之前，在所述多個記錄層中的每一個上預先進行所述最佳功率控制記錄功率設置步驟。

4.一種用于具有多個記錄層的光學記錄介質的記錄裝置，其包括：

控制算術單元，用于當在所述多個記錄層中的每一個上進行記錄之前進行最佳功率控制以針對所述多個記錄層中的每一個設置最佳功率控制記錄功率，

其中，當在一個記錄層上進行記錄之后，在另一記錄層上進行記錄之前，所述控制算術單元根據針對一個記錄層的實際記錄功率相對于最佳功率控制記錄功率的變化，來校正針對另一記錄層的最佳功率控制記錄功率，以設置當開始在另一記錄層上進行記錄時要使用的記錄功率。

5.如權利要求4所述的用于光學記錄介質的記錄裝置，其中，所述控制算術單元連續地進行在所述一個記錄層上的記錄和在所述另一記錄層上的記錄。

6.如權利要求4所述的用于光學記錄介質的記錄裝置，其中，所述控制算術單元當在所述光學記錄介質上進行記錄之前針對所述多個記錄層中的每一個預先設置最佳功率控制記錄功率。