[發(fā)明專利]光刻設備和器件制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910146623.9
• 申請日: 2009-06-03
• 公開（公告）號: CN101598902A
• 公開（公告）日: 2009-12-09
• 發(fā)明（設計）人: 約瑟夫·瑪麗亞·芬德斯
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王新華

1.一種光刻設備，包括：

照射系統(tǒng)，其構(gòu)造成以照射模式調(diào)節(jié)輻射束，所述照射模式包括從照射極發(fā)射的且相對于光軸傾斜一個角度的離軸輻射束；

支撐結(jié)構(gòu)，其構(gòu)造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠?qū)D案在所述輻射束的橫截面上賦予給所述輻射束以形成圖案化的輻射束，并且還能夠?qū)⑺鲭x軸輻射束衍射成相對于所述光軸相對地且不對稱地傾斜的零級衍射束和第一級衍射束；

投影系統(tǒng)，其具有光瞳平面，并且構(gòu)造成將所述圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；

相位調(diào)節(jié)器，其構(gòu)建并配置成調(diào)節(jié)穿過設置在所述光瞳平面上的所述相位調(diào)節(jié)器的所述光學元件的輻射束電場相位；和

控制器，其構(gòu)造并配置成獲取表示所述圖案和表示所述照射模式的數(shù)據(jù)，以識別所述第一級衍射束穿過所述光瞳平面的區(qū)域、通過計算與所述零級衍射束的光學相位相關的所需的所述第一級衍射束的光學相位來最優(yōu)化所述圖案的圖像的焦深、繪制位于所述光學元件的一部分上的所述區(qū)域的圖、以及提供熱到所述部分或從所述部分去除熱以依照所需的光學相位來改變所述光學元件的所述部分的折射率。

2.如權(quán)利要求1所述的光刻設備，其中：

所述照射模式是四極照射模式，所述四極照射模式包括分別從第一和鄰近的第二極發(fā)射的且相對于所述光軸傾斜所述角度的第一和第二束；

所述離軸輻射束是所述第二束；和

所述圖案形成裝置能夠?qū)⑺龅谝皇苌涑上鄬τ谒龉廨S相對地且對稱地傾斜的零級束和第一級束。

3.一種器件制造方法，包括將圖案從圖案形成裝置轉(zhuǎn)移到襯底上，所述方法包括步驟：

以具有照射模式的輻射束照射圖案形成裝置，所述照射模式包括從照射極發(fā)射且相對于光軸傾斜一個角度的離軸輻射束，所述圖案形成裝置將圖案在所述輻射束的橫截面上賦予所述輻射束以形成圖案化的輻射束，并且將所述離軸輻射束衍射成相對于所述光軸相對地且不對稱地傾斜的零級衍射束和第一級衍射束；

將所述圖案化的輻射束通過光瞳平面投影到所述襯底的目標部分上；

調(diào)節(jié)穿過設置在所述光瞳平面上的光學元件的輻射束的電場的相位，所述調(diào)節(jié)包括步驟：

獲取表示所述圖案和表示所述照射模式的數(shù)據(jù)，

識別所述第一級衍射束穿過所述光瞳平面的區(qū)域，

通過計算與所述零級衍射束的光學相位相關的所述第一級衍射束的所需光學相位來最優(yōu)化所述圖案的圖像的圖像特征，

繪制位于所述光學元件的一部分上的所述區(qū)域的圖，和

向所述部分施加熱或從所述部分上去除熱，以依照所需的光學相位改變所述光學元件的所述部分的折射率。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中：

所述照射模式是四極照射模式，所述四極照射模式包括分別從第一和鄰近的第二極發(fā)射且相對于所述光軸傾斜所述角度的第一和第二束；

所述離軸輻射束是所述第二束；和

所述圖案形成裝置將所述第一束衍射成相對于所述光軸相對地且對稱地傾斜的零級束和第一級束。