[發明專利]發光裝置及其制造方法

無效

• 申請號: 200910146313.7
• 申請日: 2009-06-19
• 公開（公告）號: CN101608748A
• 公開（公告）日: 2009-12-23
• 發明（設計）人: 孫瑞宏
• 申請（專利權）人: 和椿科技股份有限公司
• 主分類號: F21S2/00
• 分類號: F21S2/00;F21V5/04;F21V7/04;F21V9/10;H01L33/00;F21Y101/02
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司
• 代理人: 程 偉;王錦陽

1、一種發光裝置，其特征在于，包括：

基座；

發光元件，設于該基座上；以及

透鏡，設于該基座上并罩覆該發光元件，該透鏡具有出光面及反射層，且該反射層形成于該透鏡的一區域表面，從而使該發光元件產生的光束反射穿出該出光面。

2、根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于：該基座具有反射壁。

3、根據權利要求2所述的發光裝置，其特征在于：該基座具有向內凹設的容置空間，且該反射壁形成于該容置空間的壁面。

4、根據權利要求3所述的發光裝置，其特征在于：該發光元件設置于該容置空間內。

5、根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于：該發光元件為發光二極管芯片。

6、根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于：該發光元件罩覆有一螢光粉層。

7、根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于：該透鏡為封裝透鏡。

8、根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于：該透鏡的表面是選自圓弧面、圓曲面及不規則曲面所組成的群組的其中一者。

9、根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于：該反射層的材料為金屬。

10、根據權利要求9所述的發光裝置，其特征在于：該金屬是選自金、銀、鋁、鉑及鈀所組成的群組的其中一者。

11、根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于：該反射層的材料為非金屬。

12、根據權利要求1或第2所述的發光裝置，其特征在于：該反射層形成于該透鏡的該區域表面，而該出光面形成于該透鏡的另一區域表面，從而使該出光面形成特定的形狀，以及使該光束朝特定的方向射出并形成特定的光照型式。

13、根據權利要求12所述的發光裝置，其特征在于：該透鏡的該出光面是利用該透鏡的材料性質或結構性質，使該光束經折射地或者不經折射地射出。

14、一種發光裝置的制造方法，其特征在于，包括：

提供基座；

將發光元件設置于該基座上；

以透鏡罩覆該基座上的該發光元件；以及

以鍍膜方式形成反射層于該透鏡的一區域表面上。

15、根據權利要求14所述的發光裝置的制造方法，其特征在于：該基座具有反射壁。

16、根據權利要求14所述的發光裝置的制造方法，其特征在于：在將該發光元件設置于該基座上的步驟之后，更包括以螢光粉層罩覆該發光元件的步驟。

17、根據權利要求16所述的發光裝置的制造方法，其特征在于：該鍍膜方式為真空鍍膜法。

18、根據權利要求17所述的發光裝置的制造方法，其特征在于，該鍍膜方式包括：

在該透鏡上設定鍍膜區域；

以一遮罩罩覆該透鏡的該鍍膜區域以外的區域；

形成該反射層于該透鏡的該鍍膜區域上；以及

移除該遮罩。

19、根據權利要求14所述的發光裝置的制造方法，其特征在于：該鍍膜方式為電鍍法。

20、根據權利要求19所述的發光裝置的制造方法，其特征在于，該鍍膜方式包括：

在該透鏡上設定鍍膜區域；

在該透鏡的該鍍膜區域鍍上透明導電層；以及

在該鍍膜區域的該透明導電層上鍍上該反射層。

21、根據權利要求15所述的發光裝置的制造方法，其特征在于：該基座具有向內凹的容置空間，且該反射壁位于該容置空間的壁面。

22、根據權利要求21所述的發光裝置的制造方法，其特征在于：該發光元件設置于該容置空間內。

23、根據權利要求14所述的發光裝置的制造方法，其特征在于：該發光元件為發光二極管芯片。

24、根據權利要求14所述的發光裝置的制造方法，其特征在于：該透鏡表面是選自圓弧面、圓曲面及不規則曲面所組成的群組的其中一者。

25、根據權利要求14所述的發光裝置的制造方法，其特征在于：該反射層的材料為金屬。