[發(fā)明專利]噴墨記錄介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910142224.5 | 申請日： | 2009-06-23 |
| 公開（公告）號： | CN101612848A | 公開（公告）日： | 2009-12-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 奧田晃章;長瀨好幸;戶根健輔;太田岳志;永山順一 | 申請（專利權(quán)）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | B41M5/50 | 分類號： | B41M5/50 |
| 代理公司： | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人： | 劉新宇;閆俊萍 |
| 地址： | 日本東京都大*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 噴墨 記錄 介質(zhì) | ||
【權(quán)利要求書】：
1.噴墨記錄介質(zhì)，其包括：
基材；
包含干法二氧化硅和水合氧化鋁之一的多孔層；以及
包含具有粒徑105nm以上至200nm以下球形膠體二氧化硅顆粒的二氧化硅層，
該多孔層和該二氧化硅層依次形成于該基材上，
其中該多孔層由球形膠體二氧化硅顆粒以40％以上至75％以下的覆蓋率覆蓋。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴墨記錄介質(zhì)，其中包含在二氧化硅層中的球形膠體二氧化硅顆粒的絕干量為100mg/m2以上至200mg/m2以下。
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