[發(fā)明專利]用于圖像的不規(guī)則空間子采樣的自適應(yīng)生成

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910141987.8
• 申請(qǐng)日: 2009-04-29
• 公開（公告）號(hào): CN101572822A
• 公開（公告）日: 2009-11-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬克·帕尼科尼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 索尼株式會(huì)社;索尼電子有限公司
• 主分類號(hào): H04N7/46
• 分類號(hào): H04N7/46
• 代理公司: 北京東方億思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 宋 鶴;南 霆

1.一種用于圖像的不規(guī)則空間子采樣的自適應(yīng)生成的計(jì)算機(jī)化的方法， 包括：

將自適應(yīng)濾波器應(yīng)用到樣本的初始圖案中的樣本，其中所述初始圖案中 的樣本與要被預(yù)測(cè)的像素相對(duì)應(yīng)；

變化樣本預(yù)測(cè)誤差大于預(yù)測(cè)誤差閾值的每個(gè)樣本的水平值，其中所述水 平值和與所述要被預(yù)測(cè)的像素相關(guān)的樣本的預(yù)測(cè)強(qiáng)度相對(duì)應(yīng)；

從樣本中生成第一預(yù)測(cè)圖案；

執(zhí)行對(duì)所述第一預(yù)測(cè)圖案中的當(dāng)前樣本的樣本移動(dòng)處理，以改變所述第 一預(yù)測(cè)圖案中的所述當(dāng)前樣本的當(dāng)前位置；

如果改變了所述當(dāng)前樣本的所述當(dāng)前位置，則更新所述當(dāng)前樣本所影響 的像素的局部預(yù)測(cè)；

如果滿足準(zhǔn)則，則執(zhí)行對(duì)所述第一預(yù)測(cè)圖案中的所述當(dāng)前樣本的樣本去 除處理，以從所述第一預(yù)測(cè)圖案中去除所述當(dāng)前樣本；

如果去除了所述當(dāng)前樣本，則更新所述當(dāng)前樣本所影響的像素的局部預(yù) 測(cè)；

從所述第一預(yù)測(cè)圖案中剩余的樣本生成第二預(yù)測(cè)圖案；以及

輸出所述第二預(yù)測(cè)圖案。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)算機(jī)化的方法，其中所述樣本移動(dòng)處理包括：

為所述當(dāng)前樣本計(jì)算不同樣本位置；

計(jì)算與所述當(dāng)前位置相對(duì)應(yīng)的當(dāng)前預(yù)測(cè)誤差；

計(jì)算與所述不同樣本位置相對(duì)應(yīng)的不同預(yù)測(cè)誤差；以及

將所述當(dāng)前樣本移動(dòng)到具有最低預(yù)測(cè)誤差的位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的計(jì)算機(jī)化的方法，其中兩個(gè)上述更新局部預(yù)測(cè)包 括：

計(jì)算樣本的影響區(qū)域，所述影響區(qū)域包括如下像素，該樣本是所述像素 的預(yù)測(cè)中的因子；

更新所述當(dāng)前樣本的影響區(qū)域中的像素的局部預(yù)測(cè)誤差；

更新該影響區(qū)域中的像素的濾波系數(shù)，其中所述濾波系數(shù)定義了所述當(dāng) 前樣本與像素之間的預(yù)測(cè)關(guān)系；

將所述自適應(yīng)濾波器應(yīng)用于該影響區(qū)域中的像素；以及

將水平變化應(yīng)用于所述當(dāng)前樣本。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)算機(jī)化的方法，其中所述樣本去除處理包括：

從影響區(qū)域中的像素的當(dāng)前預(yù)測(cè)中確定當(dāng)前預(yù)測(cè)誤差，所述當(dāng)前預(yù)測(cè)包 括所述當(dāng)前樣本的預(yù)測(cè)權(quán)重；

從影響區(qū)域中的像素的測(cè)試預(yù)測(cè)中確定測(cè)試預(yù)測(cè)誤差，所述測(cè)試預(yù)測(cè)不 包括所述當(dāng)前樣本的預(yù)測(cè)權(quán)重；

如果所述當(dāng)前預(yù)測(cè)誤差與所述測(cè)試預(yù)測(cè)誤差之間的差的絕對(duì)值小于樣本 去除閾值，則去除所述當(dāng)前樣本。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的計(jì)算機(jī)化的方法，其中去除所述當(dāng)前樣本還包 括：

確定樣本密度，所述確定不包括所述當(dāng)前樣本的存在；

如果所述樣本密度大于最小樣本密度，則去除所述當(dāng)前樣本。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的計(jì)算機(jī)化的方法，所述方法還包括：

計(jì)算樣本的影響區(qū)域，所述影響區(qū)域包括如下像素，該樣本是所述像素 的預(yù)測(cè)中的因子；

如果所述當(dāng)前樣本被去除，則更新所述當(dāng)前樣本的影響區(qū)域中的像素的 局部預(yù)測(cè)誤差；

如果所述當(dāng)前樣本被去除，則更新該影響區(qū)域中的像素的濾波系數(shù)，其 中所述濾波系數(shù)定義了所述當(dāng)前樣本與像素之間的預(yù)測(cè)關(guān)系；

如果所述當(dāng)前樣本被去除，則將所述自適應(yīng)濾波器應(yīng)用于該影響區(qū)域中 的像素；以及

如果所述當(dāng)前樣本保留在所述第一預(yù)測(cè)圖案中，則將水平變化應(yīng)用于所 述當(dāng)前樣本。