[發(fā)明專利]用于測(cè)量樣本的散射性和/或吸收性和/或折射性的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910141946.9 | 申請(qǐng)日: | 2009-04-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101598662A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-12-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | K·-H·米滕茲韋;G·辛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 克洛納光學(xué)傳感器公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/01 | 分類號(hào): | G01N21/01;G01N21/31;G01N21/41 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李永波;梁 冰 |
| 地址: | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 測(cè)量 樣本 散射 吸收性 折射 裝置 | ||
1.一種用于測(cè)量樣本(2)的散射性和/或吸收性和/或折射性的裝置,所述 裝置具有射束源(3)、至少一個(gè)接收元件(4)、至少一個(gè)光學(xué)成像元件(5)和 至少一個(gè)保護(hù)元件(6),其中,所述射束源(3)和所述接收元件(4)設(shè)置在 所述光學(xué)成像元件(5)的傳感器側(cè),其中,所述保護(hù)元件(6)設(shè)置在所述成 像元件(5)的樣本側(cè)并且與所述成像元件(5)相鄰,并且,所述射束源(3)、 所述成像元件(5)和所述接收元件(4)彼此之間如此設(shè)置,即,所述接收元 件(4)能夠接收定向發(fā)送和/或鏡面反射的樣本射束(7),
其特征在于,
折射射束源(8)和折射接收器(9)設(shè)置在所述成像元件(5)的傳感器側(cè) 并且相對(duì)于所述成像元件(5)如此設(shè)置,即,對(duì)于所述折射接收器(9)而言, 所述樣本(2)的在所述保護(hù)元件(6)的樣本側(cè)的臨界面(10)上鏡面反射的 折射射束(11)基本上是能夠被接收的,而在所述保護(hù)元件(6)的成像元件側(cè) 的臨界面(12)上鏡面反射的射束(13)基本上是不能被所述折射接收器(9) 接收的,其中所述折射射束源(8)設(shè)置在所述射束源(3)和所述成像元件(5) 之間,并且/或者所述折射接收器(9)與所述接收元件(4)相比距離所述成像 元件(5)更遠(yuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述折射射束源(8)與所述 成像元件(5)的光學(xué)軸線(14)的間距大于所述射束源(3)與所述成像元件 (5)的光學(xué)軸線(14)的間距,并且/或者所述折射接收器(9)與所述成像元件 (5)的光學(xué)軸線(14)的間距大于所述接收元件(4)與所述成像元件(5)的 光學(xué)軸線(14)的間距。
3.根據(jù)權(quán)利要求1至2之一所述的裝置,其特征在于,反射器(16)如此 設(shè)置在所述成像元件(5)的樣本側(cè),即,從所述射束源(3)發(fā)射的射束穿過(guò) 至少部分透明的樣本(2)并且被施加到所述接收元件(4)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述折射射束源(8)發(fā)射至 少一個(gè)預(yù)定波長(zhǎng)的射束。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述折射接收器(9)對(duì)所述 折射射束源(8)的射束特別敏感,其中,所述折射接收器(9)具有光學(xué)的過(guò) 濾器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,設(shè)置了至少一個(gè)散射接收器 (18a、18b),并且如此設(shè)置,即,所述樣本(2)的散射射束(15)基本上能夠 被施加到所述散射接收器(18a、18b),并且所述樣本(2)的鏡面反射的折射 射束(11)基本上不能被施加到所述散射接收器(18a、18b)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,應(yīng)用由至少一個(gè)散射接收器 (18a、18b)接收并確定的散射射束(15)以補(bǔ)償可被所述折射接收器(9)接 收的散射束(15)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,通過(guò)由所述折射接收器(9) 接收的射束減去由所述散射接收器(18a、18b)接收并確定的散射射束(15) 的加權(quán)部分來(lái)實(shí)施所述補(bǔ)償。
9.根據(jù)權(quán)利要求6至8之一所述的裝置,其特征在于,所述至少一個(gè)散射 接收器(18a)靠近或者設(shè)置在所述成像元件(5)的光學(xué)軸線(14)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述至少一個(gè)散射接收器比 所述射束源(3)和/或所述接收元件(4)更靠近所述成像元件(5)的光學(xué)軸線 (14)。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述散射接收器(18a)與 所述成像元件(5)的距離與所述射束源(3)和/或所述接收元件(4)與所述成 像元件的距離基本上是相等的。
12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述至少一個(gè)散射接收器 (18b)設(shè)置在所述成像元件(5)的傳感器側(cè)并且與所述成像元件(5)相鄰, 其中,所述散射接收器(18b)指向所述樣本(2)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,所述散射接收器(18b)設(shè) 置在所述成像元件(5)的外邊緣上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于克洛納光學(xué)傳感器公司,未經(jīng)克洛納光學(xué)傳感器公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910141946.9/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備
- 樣本引入裝置、樣本引入基片和樣本引入方法
- 樣本查找方法、裝置及系統(tǒng)
- 模型訓(xùn)練、樣本平衡方法及裝置以及個(gè)人信用評(píng)分系統(tǒng)
- 樣本輸送系統(tǒng)、樣本輸送方法以及樣本檢測(cè)系統(tǒng)
- 樣本分析裝置、樣本檢測(cè)設(shè)備及樣本檢測(cè)方法
- 樣本檢測(cè)方法、樣本檢測(cè)裝置及樣本檢測(cè)系統(tǒng)
- 樣本架、樣本混勻系統(tǒng)及樣本分析儀
- 樣本收集管及樣本收集系統(tǒng)
- 樣本數(shù)據(jù)集的擴(kuò)容方法及模型的訓(xùn)練方法
- 行人重識(shí)別的噪聲樣本識(shí)別方法、裝置、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)





