[發明專利]含有水的廢液的處理方法

無效

• 申請號: 200910140641.6
• 申請日: 1998-12-10
• 公開（公告）號: CN101643258A
• 公開（公告）日: 2010-02-10
• 發明（設計）人: 藤畑健二;關秀司;寺田慎一
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: C02F1/469
• 分類號: C02F1/469;C25B1/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 陳建全

1、一種含有水的廢液的處理方法，其中在電解槽中，在陰極室內注入純水，在陽極室內注入所述廢液，進行電解，并通過在所述廢液中含有的水所生成的氧使廢液中的氮還原物進行氧化，形成氮氣，其中在所述電解槽的陽極和陰極間配置了由氧化鋁構成的隔膜，且所述陽極和所述陰極中的至少一個具有網狀或多孔狀，所述陽極和所述陰極被配置成緊密挾持著所述隔膜。

2、一種含有水的廢液的處理方法，其中在電解槽中，在陽極室內注入純水，在陰極室內注入所述廢液，進行電解，并通過在所述廢液中含有的水所生成的氫使廢液中的氮氧化物進行還原，形成氮氣，其中在所述電解槽的陽極和陰極間配置了由氧化鋁構成的隔膜，且所述陽極和所述陰極中的至少一個具有網狀或多孔狀，所述陽極和所述陰極被配置成緊密挾持著所述隔膜。

3、一種含有水的廢液的處理方法，其包括下列工序：在電解槽中，在陰極室內注入純水，在陽極室內注入含有氮化合物的廢液，進行第1次電解，并通過在所述廢液中含有的水所生成的氧使所述廢液中的氮還原物進行氧化、形成氮氣的第1電解工序；和在所述電解槽的陽極室內注入純水，將由所述第1電解工序氧化處理的所述廢液注入所述電解槽的陰極室內，進行第2次電解，并通過在所述廢液中含有的水所生成的氫使所述廢液中的氮氧化物進行還原，形成氮氣的第2電解工序，其中在所述電解槽的陽極和陰極間配置了由氧化鋁構成的隔膜，且所述陽極和所述陰極中的至少一個具有網狀或多孔狀，所述陽極和所述陰極被配置成緊密挾持著所述隔膜。