[發明專利]測量裝置和曝光裝置

無效

• 申請號: 200910140598.3
• 申請日: 2009-05-12
• 公開（公告）號: CN101581888A
• 公開（公告）日: 2009-11-18
• 發明（設計）人: 古河裕范
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 康建忠

1.一種測量裝置，其測量通過照明系統照明的照明平面中的空間相干性，所述裝置包括：

測量掩模，其具有至少三個針孔，并被布置在所述照明平面上；

檢測器，被配置為檢測由來自所述至少三個針孔的光形成的干涉圖案；以及

計算器，被配置為基于通過對所述檢測器檢測到的所述干涉圖案進行傅立葉變換而獲得的傅立葉譜，來計算所述照明平面中的空間相干性。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述計算器計算零頻率附近的傅立葉譜的值和所述干涉圖案的頻率附近的傅立葉譜的值之間的比率，以計算所述照明平面中的空間相干性。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述計算器根據下式計算空間相干性Γ_p：

Γp=2NFpNpF0]]>

其中，N為所述測量掩模的針孔的總數量，N_p為對形成所檢測到的干涉圖案的頻率為v的干涉圖案有貢獻的針孔的總數量，F₀為零頻率附近的傅立葉譜的值，且F_p為頻率v附近的傅立葉譜的值。

4.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述至少三個針孔包括以不相等間隔布置的三個針孔。

5.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述至少三個針孔包括不在一條直線上的三個針孔。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述至少三個針孔包括被布置為增加在所述照明平面上形成的所述干涉圖案的光強度的針孔。

7.根據權利要求1所述的裝置，還包括被配置為驅動所述測量掩模的驅動機構。

8.根據權利要求1所述的裝置，其中，對所述照明平面進行照明的光的波長λ、所述針孔之間的間隔p、所述測量掩模和所述檢測器之間的距離h、和所述檢測器的檢測間距g滿足：

h>2pgλ.]]>

9.根據權利要求1所述的裝置，其中，在通過基本上線性地改變所述針孔之間的間隔和布置所述針孔的方向而獲得的位置處布置所述測量掩模中的所述針孔。

10.一種曝光裝置，其通過照明系統照明原版，并通過投影光學系統將所述原版的圖案投影到基板上以曝光所述基板，所述曝光裝置包括：

如權利要求1定義的測量裝置，其被布置在所述曝光裝置中，以便測量通過所述照明系統照明的照明平面中的空間相干性。

11.根據權利要求10所述的曝光裝置，其中，基于所述測量裝置測量的空間相干性來控制所述照明系統中的有效光源分布。