[發明專利]坐標位置檢測設備的制造方法

有效

• 申請號: 200910140576.7
• 申請日: 2009-05-08
• 公開（公告）號: CN101587411A
• 公開（公告）日: 2009-11-25
• 發明（設計）人: 近藤幸一
• 申請（專利權）人: 富士通電子零件有限公司
• 主分類號: G06F3/045
• 分類號: G06F3/045;B23K26/36
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 呂林紅

1.一種坐標位置檢測設備的制造方法，該坐標位置檢測設備包 括：

形成在基板上的電阻膜；和

構成為向該電阻膜施加電壓的共用電極，

其中，通過從所述共用電極向所述電阻膜提供電位，在所述電阻 膜上產生電位分布，檢測出所述電阻膜被接觸的位置的電位，從而檢 測出所述電阻膜的接觸位置的坐標，

所述坐標位置檢測設備的制造方法包括以下步驟：

在具有矩形結構的基板的四個邊的電阻膜上形成所述共用電極；

利用電位測量電路經由分別與所述電阻膜的表面接觸的多個探 頭，測量所述電阻膜的電位的分布，其中所述電位從所述共用電極被 提供給所述電阻膜；

由計算部分根據所測量的電位分布的信息來計算其中所述電阻膜 將被去除的電阻膜除去區域，從而使在除去所述電阻膜除去區域之后 所述電阻膜的電位分布均勻；以及

通過激光除去由所述計算部分計算的電阻膜除去區域中的電阻 膜，其中

計算所述電阻膜除去區域的步驟被配置為，當在測量步驟中測量 的所述電阻膜的電位的分布與理論上的電位分布不一致的情況下，計 算所述電阻膜除去區域的間距或結構，使電位分布接近理論上的電位 分布。

2.如權利要求1所述的坐標位置檢測設備的制造方法，

其中，在通過激光除去電阻膜的步驟中，將所述基板固定到移動 工作臺上，所述移動工作臺構成為至少在二維方向上移動；

在由所述控制電路根據由所述計算部分計算的所述電阻膜除去區 域的信息驅動所述移動工作臺的同時，照射激光。

3.如權利要求1所述的坐標位置檢測設備的制造方法，

其中，所述電阻膜包括ITO或氧化銦、氧化錫、氧化鋅或氧化銻。

4.如權利要求1所述的坐標位置檢測設備的制造方法，

其中，所述基板和所述電阻膜在可見區域中是透明的。

5.如權利要求1所述的坐標位置檢測設備的制造方法，

其中，所述激光具有340nm～420nm的波長。